中古 DENTON VACUUM DESK II #9308564 を販売中

DENTON VACUUM DESK IIは、成膜やコーティング表面処理などの用途向けに開発されたスパッタ装置です。ユーザーのニーズに応じて、さまざまなスパッタ構成を生成することができる強力で高度なシステムです。また、優れた制御能力と高効率スパッタリング技術により、大規模運転を想定して設計されています。機械の主要な部品は真空の部屋、スパッタターゲット、電源およびRFの発電機を含んでいます。真空チャンバーは、密閉されたステンレス製のボディで構成され、真空レベルを維持するためのRFツールを使用しています。チャンバー内では、堆積プロセス中に圧力が5〜6 mTorrの間に残ります。電源はスパッタターゲットに電流を供給します。最大出力定格は最大600アンペアです。RFジェネレータは、スパッタターゲットを活性化するために使用される高電圧を生成するために使用されます。DESK IIのユニークな機能により、シングル、ダブル、トリプルターゲットなど、さまざまなスパッタ構成から選択できます。これは、異なる種類の材料を持つシート、チャンバー、または複雑な構造を得るために有益です。ユーザーはスパッタターゲット、電源、およびRF発電機の位置を制御できるので、材料の堆積は望ましい適用に合わせることができます。このスパッタリングアセットには、回転可能なビューポート、水晶ビューポート、および可変的な速度ベース回転も備えています。ビューポートは、チャンバー内で行われる堆積プロセスの内部ビューを提供します。水晶ビューポートを使用すると、ユーザーは堆積プロセスを外部で監視できます。可変的な速度の基盤の回転によって、ユーザーはスパッタターゲットの位置を制御できます。これにより、正確で均一な蒸着プロセスが可能になります。また、DENTON VACUUM DESK IIは、基板温度とチャンバー圧力を別々に制御することができます。これにより、スパッタリング処理を最小限の汚染で行うことができ、フィルムの所望の特性を得ることができます。その高度なスパッタリング技術と優れた制御機能により、さまざまなスパッタリング操作に最適な製品です。