中古 DENTON VACUUM DESK II #293618089 を販売中

デントン真空デスクIIは薄膜成膜用のコンパクトで使いやすいスパッタリング装置です。陰極アーク蒸着、イオンビームスパッタリング、物理蒸着、反応スパッタ蒸着などの高性能膜蒸着用途向けに設計された真空蒸着システムです。このユニットは、作業圧力、温度、ターゲット材料などの幅広い基板構成とプロセスパラメータを備えています。操作とメンテナンスが簡単で、特定のプロセスのニーズに合わせて基板、ターゲット材料、パラメータを素早く変更できます。DESK IIのスパッタリングチャンバーはステンレス製のベローズ構造で、ソースとターゲットホルダーの両方に簡単にアクセスできる3ピースデザインを備えています。ソースホルダーは直径12インチまでの基板に対応でき、ターゲットホルダーは直径20インチまで対応できます。この機械は-20°C〜+400°Cの間で温度を処理することができ、ガス種、最大400 mTorrの圧力の広い範囲を提供します。それは10-4から10-7 mTorrの圧力範囲の優秀な真空の環境を提供します。このツールには、コントロールパネルとグラフィカルユーザーインターフェイスが装備されており、ユーザーは遠隔地からアセットを制御および監視できます。また、モデルの安全動作を確保する高度な安全機能が装備されています。また、オンボード診断装置を備えており、ユーザーは堆積プロセス中に発生する可能性のある問題をトラブルシューティングすることができます。DENTON VACUUM DESK IIは、システムの稼働時間を最大化し、信頼性と再現性の高い結果を提供するように設計されています。多彩な成膜工程や材料に対応できる汎用性の高いユニットです。さまざまな基板形状やサイズの薄膜の高いスループットと成膜に最適です。機械は優秀なプロセス安定性および信頼できる性能を提供するように設計されています。