中古 CVC 601 #9046395 を販売中

CVC 601は、さまざまな薄膜材料を基板に堆積させるために設計されたスパッタ装置です。これは、堆積ターゲットとサンプル基板を個別のターンテーブルに取り付けるユニークな構造を特徴としています。これにより、曲面または曲面のいずれかに薄膜を均一に堆積させることができ、多くの真空蒸着アプリケーションにとって魅力的な選択肢となります。このシステムは、プロセスチャンバー、高真空ロータリーポンプ、およびロータリージョイントで構成され、チャンバからスパッタリング源への真空タイトな接続を提供します。対象となる材料を磁気的にターゲットスタンドに取り付けることで、角度を変えることができ、フィルムを蒸着させるためにターゲットを回転させることができます。その後、サンプル基板をサンプルターンテーブルに接続した基板ホルダーに取り付けます。調整可能なターンテーブルにより、サンプルを回転させて、曲面上でも均一な成膜を行うことができます。動作中、ユニットは所定の真空レベルに達するまでプロセスチャンバーをポンプダウンします。スパッタ源を基板に給電してスパッタし、望ましい薄膜を作成します。ターゲット角度およびターンテーブルの速度は沈殿させたフィルムの厚さそして均質性を制御するために調節することができます。601は制御および監視装置の広い範囲を特色にします。これには、プロセスチャンバー圧力を監視するサンプル圧力モニター、スパッタプロセスの炭素汚染レベルを監視するエミッションモニターが含まれます。その他の機能としては、過電流保護、ポンプ圧力と膜厚のデジタル読み出し、プログラム可能なタイマー、手動オーバーライド制御などがあります。CVC 601マシンは、光学フィルター、半導体デバイス、誘電体コーティング、ダイヤモンドのようなカーボンコーティングの製造など、多くの薄膜蒸着アプリケーションで使用するように設計されています。独自の設計により、複雑な後処理を必要とせずに、薄膜材料の均一で制御された成膜を行うことができます。費用対効果の高い設計で信頼性の高い結果と効率を提供することにより、薄膜蒸着業界で魅力的な選択肢です。