中古 CVC 601 #83143 を販売中

CVC 601は薄い金属および金属の合金のフィルムを沈殿させるために使用される高性能のマグネトロンスパッタリング装置です。このシステムは、反応性または非反応性スパッタリングプロセスに適しています。これは2つのターゲットで構成され、2つの異なる材料を同時に独立して生成することができます。このユニットはPVDとPA6電源の両方を備えており、マルチコンポーネントフィルム構造とシングルコンポーネントフィルムの成膜を可能にします。601は、所望のスパッタリング角度に正確に設定できる可動基板ステージを備えています。この角度は、最適なフィルム密度と組成制御のために調整することができます。このマシンは、ターゲットローディングの範囲を持っており、異なる厚さのフィルムを生成することができます。CVC 601には、高出力、調整可能な周波数RF/DCジェネレータと2 x 30 cm真空チャンバーが装備されています。RF発電機は、最大700ワットの電力範囲と1400ワットの合計組み合わせ電力を持っています。発電機にはフィールド強度測定装置とパワーコントロールツールがあり、スパッタリング速度を正確に制御できます。このアセットは、RFバイアス、電力、圧力、温度など、複数の制御を備えています。これにより、ユーザーは堆積プロセスを正確に監視および変調することができます。温度範囲は150-1000 Cの間で調節可能、温度の傾斜のための選択と。温度範囲は、CVCコンピュータモデルからオペレータによって迅速に設定および調整することができます。601にはイオン源もあり、イオン補助スパッタリングに使用できるため、フィルム品質が向上します。また、アルゴンまたは酸素を反応ガスとして、反応スパッタリングプロセスに使用できるオプションのガス注入装置もあります。CVC 601はまた、フィルム組成を正確に監視することができるインライン粒子解析システムを備えています。粒子分析ユニットは、0。3〜9。9ミクロンのサイズ範囲の粒子を検出することができます。安全面では、601には誤った誤操作を防ぐインターロック安全システムが装備されています。機械にCECによって承認される安全スイッチ、また緊急停止ボタンがあります。スパッタリング防止装置もあり、スパッタリング中に発生する粒子がチャンバーに侵入するのを防ぎます。CVC 601は、効率的な薄膜蒸着に使用できる強力で信頼性の高いツールです。作動しやすく、蒸着プロセスを正確に制御することができ、均一なフィルム品質を実現します。柔軟性、安全性、使いやすさを兼ね備えた601は、薄膜成膜に最適なツールです。