中古 CPA / KURDEX 9900 #9262873 を販売中

ID: 9262873
PVD Sputtering system Cryo compressor Vacuum pump Vacuum gauge (2) Targets BOC EDWARDS Vacuum pump ADVANCED ENERGY MDX DC Power supply RF Generator (2) Loadlocks Slot trays Silicon wafer, 4"-8" MEMS Gallium Arsenide (GaAs) Glass wafers / Solar cell / Flat panel Panel missing.
CPA/KURDEX 9900スパッタリング装置は、最先端の薄膜成膜技術向けに設計された高性能、最先端のスパッタリングシステムです。この高度なスパッタリングユニットは、ユーザーが優れたスパッタリング結果を達成することができ、機能と機能の広い範囲を備えています。CPA 9900スパッタリングマシンは、最大4つのマグネトロンスパッタリングソースと4つのrf/dc(直流)平面ソースをフィルムのスパッタリングに提供することができます。スパッタリングプロセスを非常に細かく制御することで、幅広い厚さを実現できます。このツールはまた、両面で優れた均一性と制御性を提供します。2つのマグネトロン源と4つのrf/dc平面源に加えて、KURDEX 9900には2つのターボ分子ポンプが装備されており、圧力設定ポイントの範囲を可能にしています。これにより、高いスループットとスパッタリングプロセスの大幅な制御が可能になります。9900スパッタリングアセットには、高度な光学系も装備されており、ユーザーは膜厚と組成を正確に測定することができます。その高度なビジョンモデルと反射ビームデバイスは、表面地形、平面化、均質性の詳細な分析を提供します。自動化されたレシピ機能と組み合わせて、CPA/KURDEX 9900は、最も複雑な薄膜蒸着プロジェクトに最適です。CPA 9900のスパッタリング装置にまた使いやすいタッチ画面インターフェイスを特色にする非常にユーザーフレンドリーなインターフェイスがあります、ユーザーが数回のかちりと言う音でスパッタリング変数をすぐに調節することを可能にします。また、イオンエッチング、エッジアイソレーション、マルチレイヤリング、フィルムオンフィルム蒸着などの高度なプロセスもサポートしています。このスパッタリングユニットの強力なガス制御システムは、ガスフローの優れた制御を提供し、理想的なスパッタリング性能を確保するのに役立ちます。全体的に、KURDEX 9900スパッタリングマシンは、最適なスパッタリング性能、精度、均一性をユーザーに提供することができる強力で信頼性の高いマシンであり、複雑な薄膜蒸着プロセスで優れた結果を達成することができます。
まだレビューはありません