中古 CPA / KURDEX 9900 #9115251 を販売中
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販売された
ID: 9115251
Sputtering system
DRESSLER Cesar 1kW cryo pump
(2) Torr 8
Torr 10
Process parameter control ranges:
Sputtering pressure: 5 - 30 Microns
Conveyor speed: 0.1 - 80 cm.min.
D.C Deposition power level: 100 - 9000 watts
R.F Deposition power level: 50 - 3000 watts
R.F Sputter clean power level: 15 - 1000 watts
Substrate heating: Ambient to 350°C
Uniformity performance:
Etch: ±10%
Deposition:
R.F Magnetron ±10%
D.C Magnetron ±5%
Vacuum performance:
Ultimate pressure
2 x 10(-7) in 16 hrs
5 x 10(-7) in 30 minutes
Rate of rise: 1 x 10(-4) 6 minutes
Vacuum tight: Less than 5 x 10(-10) standard atmosphere cc helium/second
Utility requirements:
4 Wires delta or 5 wires wye
Water temperature: 50 - 75°F (10-24°C)
Air: 70 to 100 PSIG (6 to 8 ATU) filtered, 1 CFM
Sputtering gas: Typically 5 PSIG (1.3 ATU) argon
Power: 208 V, 100 A. 3 phase, 50/60 Hz.
CPA/KURDEX 9900スパッタ装置は、薄膜成膜に使用される最先端のハイテク機器です。スパッタコーティング、化学蒸着、または電気めっきなどの特殊用途向けに設計された高度なマルチターゲット、マルチガン、ターンキーシステムです。CPA 9900は研究および生産の適用の両方に適しています。このユニットには、金属、酸化物、タングステンケイ化物、窒化物など、幅広い材料の沈着を可能にする複数のターゲットが組み込まれています。この銃の構成は、最大6つの磁気浮上または8つの水晶センサーをサポートします。KURDEX 9900マシンは、優れたターゲット均一性、高スループット、および低基板の故障を可能にするデジタル電源レギュレーションとフィードバック制御を備えています。自動化されたプロセス制御には、基板バイアス、材料配送、プロセス雰囲気、真空性能の最大256ポイントのプログラムされたマグニチュードランプ/タイミングが含まれます。プロセス圧力は0。64から10-8 Torrまで及びます。改善された核と接着のための基板加熱は、手動で動作するか、最大800 C。 9900の温度にプログラムすることができます。イーサネット、RS-232、 GPIB、およびIEEE-488インターフェイスを含む高度なインタフェース機能を提供します。これらは、プロセス制御、データロギング、レシピストレージ、およびリモート操作のためのPCインターフェイスを介してアクセスできます。さらに、このツールは、酸素除去のためのアクティブなパージと再循環マニホールドを提供します。CPA/KURDEX 9900スパッタリングアセットは、優れた薄膜コーティングソリューションを提供する汎用性、信頼性、ユーザーフレンドリーなモデルです。オールインワンプラットフォームは、使いやすさ、信頼性、およびスループットのために設計および設計されています。最小限のオペレータートレーニングを必要とし、さまざまな基板に幅広い材料をコーティングする機能を提供します。スパッタリング装置は、さまざまな産業、医療、電子、防衛アプリケーションに最適です。
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