中古 CPA / KURDEX 9900 #9035084 を販売中
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ID: 9035084
Sputtering system
Manual operation
Cold trap in each chamber
Load lock at each end
Substrate heater chamber
(3) Cathode chambers
Cathode size: 15"
Diffusion pumps model #0183 (VHS-4 new model number) for the load locks
Turbovac 1000CT Turbo pump for the process chamber
System handles 14 pallets in a load, 12"x12" usable pallet area
Equipped in each load lock a heater enclosure and an omega temperature controller for high temperature cures (=<500C) at high vacuum.
CPA/KURDEX 9900は、ナノテクノロジーおよび材料研究用に設計された高性能スパッタリング装置です。それはさまざまなエネルギー源およびカスタマイズ可能なユーザー構成可能な変数の広い範囲を特色にする密集した、非真空、高レートプラズマシステムです。このユニットは、コントローラ、電源、ガス供給、ターゲットホルダー、幅広いターゲット、コリメートバッフル、真空チャンバー、ビューポートを備えたモジュラープラットフォーム上に構築されています。CPA 9900は、高出力パルスプラズマ技術を使用して、高速で再現性のあるスパッタリングプロセスを生成し、欠陥を最小限に抑えた基板上に薄膜材料の気相堆積物を提供します。この機械によって提供される均一な、高い率のスパッタリングは優秀な付着および均等性の薄膜の質の沈着を保障します。さらに、このツールは、半導体構造、光学コーティング、生物医学デバイスなど、幅広い用途のフィルムを堆積するために使用することができます。KURDEX 9900のパワーは、マグネトロン、アークプラズマ源、電子ビームガンなど、幅広いエネルギー源によって提供されます。制御および監視システムにより、電源、ガス組成、パルス幅などのプラズマパラメータを正確に調整できます。また、温度、圧力、クールダウン時間、圧力モードなどのカスタマイズ可能な作業パラメータも備えています。これにより、ユーザーはスパッタリング堆積物を特定の要件に合わせて調整することができます。9900アセットには、スパッタリングプロセス中の安全を確保するためのさまざまな安全メカニズムが装備されています。これらの対策には、空間温度に依存しない過熱シャットオフ、ターゲット領域の熱保護、およびレベルに敏感なアーク開始制御が含まれます。このモデルはまた、蒸発した粒子と基板との反応や表面汚染物質との相互作用を低減する「ターゲット中毒」装置を備えています。全体的に、CPA/KURDEX 9900スパッタリングシステムは、ナノテクノロジーと材料研究のための効率的で再現性があり、高度に制御可能なユニットです。この機械は、幅広い特性と用途を持つ材料に対して優れた品質と均一性を有する薄膜堆積物を製造することができます。ユーザーフレンドリーなインターフェイスは、カスタマイズ可能なパラメータの範囲と相まって、CPA 9900スパッタリングツールは、任意の研究や産業用スパッタリングアプリケーションのための優れた選択肢になります。
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