中古 CANON / ANELVA SPF-730H #9284123 を販売中

CANON/ANELVA SPF-730Hスパッタリング装置は、スパッタリングターゲットのエネルギッシュな砲撃を通じて、様々な薄膜の堆積のために設計された汎用性と高度な機械です。このスパッタリングターゲットは、典型的には金属合金で作られ、真空チャンバーに配置され、次にアルゴンなどの不活性ガスで満たされます。チャンバは設定された温度まで加熱され、チャンバに高電圧と電流が導入されます。この結果、電場が生成され、不活性ガス原子がイオン化され、スパッタリングターゲットに向かって加速され、ターゲットを爆撃し、材料の原子をスパッタしてチャンバーに入れます。これらのスパッタされた原子は下側の基板上に凝縮され、それによって基板上のターゲット材料の薄膜が形成されます。キヤノンSPF-730Hスパッタリングシステムは、さまざまな薄膜蒸着プロセスでの使用に理想的な統合された多機能ユニットです。スパッタリングプロセスの制御に優れ、均一で再現性のある薄膜成膜を実現します。また、圧力パルス制御、ターゲット角度制御、ターゲット反射制御、コンピュータ制御などの高度な機能も含まれています。さらに、ANELVA SPF-730Hスパッタリングユニットは優れた性能を提供し、耐久性とメンテナンスが容易なコンポーネントが含まれています。SPF-730Hスパッタリングマシンは、幅広い基板サイズと材料を提供し、ユーザーはさまざまな特性と用途で簡単に薄膜を作成することができます。さらに、このツールは、スパッタリング工程でさまざまなターゲット材料を使用することができます。ターゲットと基材の組み合わせが異なるため、特性の異なるフィルムが得られます。キヤノン/ANELVA SPF-730Hスパッタリングアセットは、様々な薄膜成膜プロセスに最適なモデルです。全体として、キヤノンSPF-730Hスパッタ装置は、薄膜成膜用に設計された堅牢で信頼性の高い機械です。これは、スパッタリングプロセスを非常に正確に制御することを可能にする機能と設定の範囲を提供しています。その汎用性と高度な機能のおかげで、薄膜堆積物の広い範囲に使用することができ、したがって、多くの研究、産業、および学術アプリケーションのための人気のある選択肢です。