中古 CANON / ANELVA SPF-730H #9219102 を販売中

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CANON / ANELVA SPF-730H
販売された
ID: 9219102
Sputtering system, 6" Front-end.
CANON/ANELVA SPF-730Hは、半導体、薄膜、ナノテクノロジー関連の研究開発分野で一般的に適用される材料の薄膜蒸着用に設計されたスパッタ装置です。金属、半導体、誘電体薄膜を基板上に堆積させることができる3源の物理蒸着(PVD)システムです。CANON SPF-730Hは、3つのソースから材料の堆積を可能にする3つの独立した回転コマグネトロンで構成されており、ユニットの最適化に役立つロータリーエンコーダを備えています。この構成により、ターゲットの使用率が向上し、生産性が向上し、再ターゲティングとメンテナンスコストが削減されます。さらに、成膜時に膜厚と組成が一貫していることを確認するために、フィールドエミッションモニターを備えています。ANELVA SPF-730Hには、メインチャンバーと複数のアプリケーション用の補助チャンバーを備えたデュアルチャンバー設計があります。メインチャンバーは真空密封されており、直径200mmまでの基板をサポートする直径20cmの基板ホルダーと、角度スパッタリング用の回転ヨークを2つ備えています。また、窒素供給を備えており、最大0。5 Paの大気中での反応スパッタリングが可能です。補助チャンバーには、ツールパラメータを制御するためのシャワーヘッド機能とマイクロコントローラが装備されています。SPF-730Hは、高真空品質を保証するロードロックアセットと、長時間の真空への基板の露出を防止するオートシャッターを備えているため、手動での取り扱いが不要です。また、蒸着プロセス中の基板の温度安定性を保証する自動動作温度制御を備えています。さらに、基板の位置決めから酸素部分圧力のモニタリングまで、プロセス全体を制御するコンピュータを搭載し、精密かつ再現性の高いレシピを実現しています。結論として、キヤノン/ANELVA SPF-730Hは、研究開発における用途のための薄膜材料の堆積に使用することができる信頼性の高い、一貫したスパッタリング装置です。3ソースのPVDシステムとロードロックユニットにより、製造されたフィルムの高い均一性と再現性が保証されます。
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