中古 CANON / ANELVA SPF-210H #9284046 を販売中

キヤノン/ANELVA SPF-210Hスパッタ装置は、薄膜、酸化物、多層構造物の製造に使用される高効率なシステムです。高周波RF電源を使用して、ターゲット材料に不活性ガスを塗布します。基板にDCバイアスを適用して均一なフィルムを作成します。キヤノンSPF-210Hは、メインチャンバー、ターゲット、2電源、DCバイアス電源、マグネトロン放電源、真空チャンバーで構成されています。主要な部屋は均一なフィルムの沈殿を保障するために温度制御されます。対象となるアルミニウムや金属などの材料は、磁気ボトルとして機能する高性能な磁石によってスパッタリングチャンバー内に所定の位置に保持されます。これにより、広域かつ均一なターゲットスパッタリングが可能になります。標的の表面は、スパッタリングを引き起こす高周波RF信号、または標的材料のプラズマ剥離によって爆撃されます。信号はマグネトロン放電源によって生成されます。4クアドラントのDCバイアス電源は、高い蒸着速度を提供します。スパッタ粒子は充電されたままであり、DCバイアスは荷電粒子を基板に押し込む加速器として機能します。基板はチャンバー内に配置され、均一で堅牢な成膜を保証するために温度が維持されます。チャンバーは、高品質のフィルム蒸着プロセスを提供するために、1 Torrにポンプで送られる真空チャンバーです。ANELVA SPF-210Hはまた、スパッタリングプロセス中にチャンバーの圧力を維持するために高効率ポンピングユニットを使用しています。さらに、注入されたガスはよく混合され、安定した流量で保たれ、再現性と信頼性の高いフィルムを生成します。SPF-210Hは酸化物および多層フィルムの製作にとって理想的です。コンパクトで使いやすいスパッタリングマシンで、メンテナンスが少なく、複雑な研磨工程を必要とせずに広い領域で均一で堅牢なフィルムを生産することができます。CANON/ANELVA SPF-210Hは、様々な金属のスパッタリング、透明導体、セラミック材料、光学薄膜など、多くの用途に適しています。