中古 CANON / ANELVA SPC-530H #9053827 を販売中

キヤノン/ANELVA SPC-530H Sputtering Equipmentは、金属などの薄膜を基板に高い割合で堆積させるための蒸着システムです。このユニットは、さまざまな用途で信頼性の高い再現性のある薄膜の製造に最適です。キヤノンSPC-530Hの柔軟性と汎用性により、多種多様な研究・産業用途に適しています。スパッタリングマシンは、ガス源、電源、真空チャンバーで構成されています。ガス源は、アルゴン、酸素、窒素、および他の化合物を含むスパッタリングプロセスに必要なガスを供給します。電源は、スパッタリングプロセスに調整可能な電圧と電流を提供します。さらに、電源にはいくつかの異なるモードと安全機能が装備されています。真空チャンバーは金属壁の温度、酸素の大気、および酸化などの望ましくない反応からフィルムを保護する圧力レベルを維持するように設計されています。ANELVA SPC-530Hは、銅、アルミニウム、チタン、ステンレス、クロムなどの材料を最大10 µm/minの成膜率で基板にスパッタすることができます。さらに、このツールにはターゲット電流を制御するための高度な技術が含まれているため、スパッタリングジョブのプロセス最適化に適しています。また、既存の設備に容易に組み込むことができ、様々な基板と互換性があります。SPC-530Hには、デュアルガスインレットバルブを備えたインテリジェントな液体ガス流量制御アセットが含まれています。スパッタリング時の酸化を防ぎ、目標圧力をコントロールします。また、液晶ディスプレイ、6種類の電圧ディスプレイ、USBまたはGPIBインターフェースなどにより、使いやすい操作性を実現してSPC-530Hます。このユニットには、主要なプロセス状態をリアルタイムで監視する高度な診断機能も装備されています。また、キヤノンSPC-530Hは、常に清潔さを保つ高度なろ過機で設計されています。これらのフィルタは、ツールから固体粒子を除去し、高品質のスパッタリングプロセスを確実にするように特別に設計されています。この資産には、オペレータと製品の両方を保護するためのさまざまな安全メカニズムも含まれています。ANELVA SPC-530Hは、幅広い用途に適した先進的で信頼性の高い汎用性の高い薄膜蒸着モデルです。その特徴はユーザーが高い速度で一貫した良質の薄膜を作り出すことを可能にします。さらに、ユーザーフレンドリーな操作、安全メカニズム、および高度なろ過装置は、研究および産業用途の両方に最適なシステムです。