中古 CANON / ANELVA ILC 1051 #9111758 を販売中

CANON / ANELVA ILC 1051
ID: 9111758
Sputtering system.
キヤノン/ANELVA ILC 1051は、高品質の薄膜成膜技術を提供するために開発されたスパッタリングシステムです。フィルム層において優れた性能、精度、精度を誇ります。スパッタリングチャンバー、ベースチャンバー、ターゲットチャンバー、ロータリーモータ、誘導電源で構成されています。スパッタリングチャンバーは、ユーザーがプロセスの所望の圧力と温度を設定することができますが、ターゲットチャンバーは、基板に関連してターゲット材料の位置を制御することができます。ロータリーモータは、チャンバー内のターゲット材料の正確な位置決めを可能にし、スパッタリング工程に最適なターゲット構成を実現します。ベースチャンバーは基板を収容し、プロセスの温度と圧力を制御します。誘導電源は、スパッタされた材料を基板に転送するイオン電流を制御するために使用されます。キヤノンILC 1051は、マグネトロンスパッタリング、イオン金属スパッタリング、金属イオンプラズマスパッタリングなど、さまざまなスパッタリング処理が可能です。また、急速な熱処理を行うことができます。さらに、酸化物、反応金属、純金属、合金、炭素化合物、および様々なセラミック材料を含むがこれに限定されない様々なターゲットを受け入れるように設計されています。ANELVA ILC-1051は、半導体の製造、薄膜太陽電池の製造、光学コーティング、医療機器のアプリケーションなど、幅広い研究用途に適した汎用スパッタリングシステムです。さらに、さまざまな製品の高品質の導電性、接着剤、および保護フィルムを堆積するために使用することができます。また、様々な化学、電気化学、機械プロセスの材料を堆積するために使用することができます。ILC-1051はオープンアーキテクチャを備えており、ユーザーは特定の要件を満たすためにシステムをカスタマイズすることができます。その精密な蒸着制御と高度な電源により、高精度な層均一性と優れたフィルム特性を実現します。システムの柔軟性と適応性は、さまざまな業界の研究者の間で好ましい選択肢となります。
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