中古 CANON / ANELVA ILC 1051 #293655450 を販売中

CANON / ANELVA ILC 1051
ID: 293655450
Sputtering system Metal: AlSi, Ti, TiN.
キヤノン/ANELVA ILC 1051は、高品質のシングルフィルム成膜能力を提供するために設計されたスパッタリング装置です。このシステムは、スパッタリングターゲットの広い範囲で動作し、さまざまな用途のためのさまざまな種類のコーティングを生成することができます。スパッタリングユニットは、ベースユニット、真空チャンバー、コントローラ、ターゲットホルダー、排気装置で構成されています。ベースユニットには、自動ローディングおよびアンロードチャンバーと、セットポイントコントローラとプログラマブルロジックコントローラを含むツール内の真空を調節するために必要な機器が含まれています。真空はイオン化ゲージと圧力コントローラによって監視されます。不活性ガスは、圧力を低減するために差動圧力レギュレータを介してアセットに導入されます。ベースユニットには電源と高周波ジェネレータも内蔵しています。モデルの真空室は腐食保護のための陽極酸化されたアルミニウムコーティングが付いているステンレス鋼から成っています。フィルム成膜のための温度安定した環境を提供するように設計されています。真空チャンバーには、拡散ポンプ、ターボ分子ポンプ、汎用真空ポンプが装備されています。プロセスチャンバーには、プロセスチャンバーの外からの汚染を防ぐためにステンレス製のバッフルも装備されています。チャンバー内にターゲットホルダーを取り付け、スパッタリングターゲットを確実に保持するように設計されています。ターゲットホルダーは、異なる材料から、異なる形状で作られたものを含む、任意のサイズのスパッタリングターゲットを受け入れるように設計されています。ターゲットホルダーはまた、チャンバー内のターゲットの簡単な位置決めを可能にするように設計されています。装置は、最適な成膜を確保するために、システムのパラメータを監視するコンピュータ制御モジュールによって制御されます。このモジュールはまたユーザーがスパッタリング圧力、時間および力のようなプロセスパラメータを調節することを可能にします。また、スパッタリング時に発生する過剰な粒子やガスを除去する排気装置も備えています。CANON ILC 1051は、高品質な単膜成膜結果を提供できる効率的なツールです。この資産は、ターゲット材料や形状に多用途であり、最適なスパッタリング環境を提供する機能が含まれています。これらの機能により、プロセスパラメータの管理が容易になり、最適な動作が保証されます。
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