中古 CANON / ANELVA ILC 1051 MKII #9220284 を販売中

CANON/ANELVA ILC 1051 MKIIは、様々な産業用途の様々な材料の蒸着および表面処理用に設計されたダイナミックスパッタリング装置です。金属、セラミック、半導体材料のコーティング、洗浄、薄膜蒸着に使用されます。このシステムは、電源、プロセスチャンバー、真空ユニットの3つの主要コンポーネントで構成されています。この電源は、スパッタリング、イオンミリング、およびフィルムの成長に最大500ワットの電力を供給することができます。プロセスチャンバーは、基板、ターゲット材料、および陰極を収容します。通常、真空ポンプに接続され、蒸着中にチャンバー内の真空を維持するために使用されます。CANON ILC 1051 MKIIは、低周波（100kHz）で高い蒸着速度を得ることができる直流（DC）陰極を使用し、高密度フィルムを生成することができます。これは、対象材料の電流、電圧、発生角度、および温度を調整するために使用できる統合されたプロセス制御機能を備えています。さらに、このマシンには、プロセスパラメータを明確に監視するデジタル読み出しディスプレイが装備されています。このツールは、他のスパッタリングシステムと比較して比較的低い温度で動作するため、耐火金属、セラミックターゲット、シリコンウェーハ基板など、さまざまな材料用途に適しています。プロセスチャンバーも温度制御されており、蒸着時の精密な温度制御が可能です。このアセットは、導電性、絶縁性および半導体フィルムのPVD（物理蒸着）にも適しています。このプロセスにより、原子レベルの精度で層ごとに堆積することができます。また、オプトエレクトロニクスや電子デバイスの用途に有用な酸化膜の成膜にも使用できます。また、光学特性に優れた均一で滑らかな表面コーティングが可能です。全体として、ANELVA ILC-1051 MKIIは、幅広い用途と機能を提供する高度なスパッタリング装置です。高品質な薄膜成膜が可能で、幅広い材料に適しています。また、精密なプロセス制御、温度制御、層ごとの蒸着も可能です。これらの機能はすべて、汎用性と信頼性の高いスパッタリングユニットを探している研究者や産業専門家に最適です。