中古 CANON / ANELVA ILC 1015i #9105641 を販売中

キヤノン/ANELVA ILC 1015iは、さまざまな基板上に均一な厚さの薄膜を形成するために使用されるスパッタ装置です。システムは、電源、イオン源、プラズマ源で構成されています。電源はユニットの中心であり、スパッタ電流と電圧を制御する責任があります。電圧はイオン源とターゲット材料の間の距離を決定し、電流はイオン爆撃速度を決定します。また、この電源はスパッタ電流レベルのフィードバックを提供し、過負荷やアークを防ぐための監視および安全機能を備えています。イオン源は、対象物質に焦点を当てたイオンを供給するために使用され、対象物質原子の蒸発に必要な熱エネルギーを供給します。イオン源は通常、無線周波数（RF）、直流（DC）、またはマグネトロンスパッタです。このプラズマ源は、スパッタリングチャンバー内にプラズマ環境を作成するために使用されます。これは、スパッタリングに多用される電子とイオンの高密度プラズマトーチを生成することによって実現します。このプラズマは、ターゲット材料とスパッタガスをグロー放電に注入することによって生成され、アノードとカソードの間にスパークギャップが生じます。CANON ILC 1015iは、工業規格に適合し、厚さ2。5〜12。7ミリメートルの基板で、チャンバー総容量は27リットルです。蒸発、RFおよびDCスパッタリング、およびイオンビーム爆撃、およびその他の標準スパッタリングプロセスをサポートします。ANELVA ILC 1015iは、プロセス鍛造機能、高レベルのコンピューター制御、個別の堆積とベークサイクル、および複数のターゲット材料などの機能を備えた堅牢なマシンです。多層スパッタリング機能により、詳細なパターンや複雑なレイヤーを作成し、あらゆるサイズのオブジェクトを均一な厚さでコーティングすることができます。また、医療および食品加工用のハードコーティング、光学フィルター、光学工具用の保護層、装飾コーティングなどにも使用できます。また、このツールは、ユーザーが信頼性の高い動作パラメータだけでなく、アラームや緊急シャットオフを設定することができ、オペレータインターフェイスなどのいくつかの安全機能を備えています。これにより、資産を安全に使用できるようになります。結論として、ILC 1015iスパッタリングモデルは、均一な厚さの薄膜を作成することができる高度な機器です。それは信頼でき、安全な性能、また多層スパッタ機能を提供するように設計されています。その高度な機能と安全メカニズムは、スパッタリングプロセスに最適です。