中古 CANON / ANELVA EVC-1701 #9269417 を販売中

キヤノン/ANELVA EVC-1701は、薄膜成膜用に設計されたスパッタリング装置です。先進の直流（DC）スパッタリング電源と革新的な形状形成制御技術を備えており、小型部品や均一な厚さのデバイス向けに高精度の薄膜を製造することができます。スパッタリングシステムは、磁気とマグネトロンスパッタリングプロセスの両方で駆動する材料の堆積が可能です。この電源により、ユーザーは蒸着速度を正確に制御し、薄く均一なフィルムを生成することができます。この制御は、オンボードパルスジェネレータを備えたクローズドループユニットが組み込まれているため可能です。パルスジェネレータは、蒸着プロセス中の正確な電圧を測定し、正確で再現性のある薄膜蒸着を行うActive Beam Control （ABC）マシンによってサポートされています。キヤノンEVC-1701はまた、ユーザーがフィルムの特性と形状を正確に制御できるように、マグネトロンスパッタリング技術を提供しています。マグネトロンスパッタリングはDCスパッタリングよりも高度なスパッタリング工程であり、基板表面に多くの角度形状を形成することができます。この技術は、主に銅やアルミニウムなどの金属薄膜をフィルム組成を変更することなく製造するために使用することができます。このツールは、大型基板から複雑な形状や形状まで、さまざまな用途に対応しています。CANON Monacloudシリーズの基板に対応しており、長方形の大型基板にも対応しており、3次元形状の複雑な表面成分に直接薄膜を付着させることができます。スパッタリング技術に加えて、ANELVA EVC-1701には、加工チャンバー、ガス流量制御用の調整可能なマスフローコントローラ、チャンバーに供給される選択可能なガス流量、自動化された熱管理、および簡単に蒸着プロセスを設定するためのユーザーフレンドリーなメニュー資産など、いくつかの機能があります。EVC-1701は、幅広い用途に対応した高度なスパッタリングモデルです。蒸着速度、均一な薄膜、優れた形状制御の精密な制御により、幅広い産業および研究用途に最適です。