中古 CANON / ANELVA E-730S-FH #9167771 を販売中

キヤノン/ANELVA E-730S-FHは、半導体製造用に設計されたスパッタ装置です。このシステムは、ウェーハ上の誘電体と金属の両方の層をスパッタすることができます。また、セラミックおよび合金層をスパッタすることができます。キヤノンE-730S-FHでは、ガス圧力、アルゴン（Ar）圧力、温度、蒸着ガスの圧力などのプロセスパラメータを簡単に制御できます。これらのパラメータは、ユーザーのニーズに合わせて調整できます。また、パルスエッチング機能を搭載し、パルスエッチングを調整して蒸着速度を最適化することができます。ANELVA E-730S-FHは直径960mmのスパッタリングチャンバーを備えています。これにより、最大13インチ（312。85 mm）の大型ウエハのスパッタリングが可能になります。また、デュアル周波数電源を搭載しており、最大4.2kWの電源供給が可能です。この電源は、DCと高周波RFスパッタ蒸着の両方を生成するために使用できます。E-730S-FHは、高品質、信頼性、効率的なスパッタリングを提供するように設計されています。これは、スパッタリングプロセス全体で所望のプロセスパラメータが維持されることを確認するために、閉じたループのガス制御ツールが装備されています。この資産は、アルミニウム、銅、クロム、タンタル、薄膜などの様々な材料をスパッタするために使用することができます。このモデルはまた、堆積物の高純度を確保するのに役立つ真空制御装置を備えています。このシステムは、エアーポンプが蒸着速度を低下させないように設計されており、真空チャンバー内のほこりの蓄積を制限するように設計されています。CANON/ANELVA E-730S-FHには、視覚アラームと聴覚アラームの両方が装備されています。プロセス中に問題が発生した場合、オペレータはアラームインジケータを使用してユニットの状態を簡単に監視できます。また、ユーザーは複数のシステムをチェーンして自動的に安全に実行することができます。この機能により、すべての部品が正しく動作していることを確認しながら、複数のスパッタリングシステムを同時に実行できます。この機能は、効率を向上させ、スパッタリングコストを削減するのに役立ちます。全体的に、キヤノンE-730S-FHは、高品質の蒸着層を生成することができる信頼性と効率的なスパッタリングツールです。この資産は、研究および製造アプリケーションの両方で利用できます。