中古 BOSCH VS24C #9097913 を販売中
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ID: 9097913
RF Magnetron Deposition System
Chamber: 24" dia x 12" H
Dual 19" instrument rack
CTI Cryo-Torr 8 Cryopump, side mounted, high conductance valve
CTI 8300 Compressor with 8001 controllers
RF power supply: 2kW, matching system as bias
(1) 14" Magnetron source with R match system, Al2O3 target
Vacuum gauges valve and process control systems
Temperature and thickness control
Electro pneumatically actuated valves
VCS vacuum system controller provides automatic valve sequencing, pressure readout, and executive control of process
VSC can sense analog and digital signals, RS-232.
BOSCH VS24Cは、さまざまな薄膜成膜用途に使用できるように設計されたスパッタリングシステムのグループです。このシステムは、アルミニウム、クロム、シリコン、チタン、モリブデン、タングステンなどの材料の薄い層を基板や他の表面に堆積するために使用することができます。これらのシステムは、直流、パルス偏光DC、および/またはRF信号を使用する2、4、または8の高出力ソースを備えています。また、精密薄膜成膜のための高度なプロセス制御を備えています。各ソースに独立した電源制御を備えており、精密かつ再現性の高い蒸着が可能です。さらに、マルチガン機能により、単一の基板上に異なる組成のポリレイヤー薄膜を堆積させることができます。これにより、異なるレイヤーを生成する際の精度を向上させることができます。加工チャンバーは均一で均一な堆積環境を提供するように設計されています。これは、外部真空ポンプ、マニホールド、およびその他の補助システムへの簡単な接続を可能にする真空相互接続マニホールドを備えています。これにより、迅速かつ効率的なセットアップと構成が可能になります。さらに、ターボ分子ポンプを備えており、高い蒸着チャンバー圧力とより速い蒸着時間を可能にします。一貫した性能を提供することに加えて、VS24Cはまた容易な操作を提供します。このシステムには、プロセスパラメータとソース設定を簡単に監視できるデジタルLCDタッチスクリーンディスプレイが含まれています。さらに、高速なパラメータエントリとリコール機能は、スクリプトを簡素化し、柔軟性を追加するように設計されています。全体として、BOSCH VS24Cは強力で汎用性の高いスパッタリングユニットです。高度なプロセス制御、さらには蒸着環境、ユーザーフレンドリーな制御により、さまざまな薄膜蒸着アプリケーションを信頼性の高い方法で実行できます。機械の速い処理速度および容易な操作はそれをあらゆる研究か産業適用のために完全にさせます。
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