中古 BALZERS 450 #170848 を販売中
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販売された
ID: 170848
ウェーハサイズ: 3"-4"
Sputtering system, 3"-4"
Process: large targets (~9"x5") in a sideways-sputter configuration
Targets sputter inward onto a rotating drum.
Pallets: 3" and 4" wafers.
Drum: Raises vertically out of the top of the chamber
Hydraulic lift: Failure, but using an external hoist to open the chamber
(3) Target slots: Aluminum, Tungsten, Silicon,
Fourth slot is currently set up to perform an RF etch of the substrates and drum
System has never seen any gold or photoresist inside the chamber
Process gas: Argon
Vent gas: Nitrogen
Cryo pump: base pressure of ~5e-7 torr. (~8 hours to pump out)
(2) Power supplies
RGA: 1-100 AMU
Software
PC: Windows 98
Currently installed in a fab.
BALZERS 450は、光学部品およびシステムの世界的リーディングメーカーであるLeybold Opticsによって製造されたスパッタ装置です。このシステムは、腐食、摩耗およびその他の環境要因にさらされる表面上の高導電性コーティングの製造を含む、さまざまな産業、科学、研究用途で使用されるように設計されています。450は、スパッタリングチャンバー、ポンプステーション、堆積ユニットなど、いくつかのコンポーネントで構成されています。スパッタリングチャンバーは、40050リットルの容積を持ち、モリブデンとプラチナ被覆表面を持つステンレス鋼材料から構成されています。チャンバーの壁には、取り外し可能なリフレクターと真空シール用の保持フレームが並んでいます。これにより、均一なスパッタリングと高い再現性を実現し、優れたプロセス最適化を実現します。チャンバーはまた、ターゲットを交換せずに堆積パラメータを調整するために使用することができ、回転ターゲットと調整可能な上昇高さを組み込みます。ポンピングステーションには、オイルシールされたロータリーベーンポンプ、メカニカルブースター、高真空ポンプが含まれています。これにより、1時間あたり最大96立方メートルのポンプ容量と最大1ミリトーラーの通常の動作圧力で優れた高性能を保証します。一方、堆積機は、制御された速度で基板上にターゲット材料をスパッタするように設計されています。これは、コリメータとターゲットシャッターを使用してスパッタリングイオンビームを集中させるだけでなく、堆積している材料の完全なストイキオメトリーを確保するためのガス流量ツールによって達成されます。BALZERS 450スパッタリングアセットは、高密度光学から微粒子テクスチャ表面まで、幅広い成膜プロセスを提供します。また、オプションのリアルタイムモニタリング機能を備えた自動化されたプロセス制御モデルも提供しており、プロセスコストを削減して一貫した製品品質を実現します。さらに、設計されたコンポーネントは信頼性の高いパフォーマンスを提供し、プロセスの再現性と収益性が向上します。450は、要求の厳しい産業、科学、研究アプリケーションの要件を満たすように設計された安全で信頼性の高い機器です。
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