中古 ANATECH / TECHNICS HUMMER X #9307601 を販売中

ID: 9307601
Sputtering coater.
ANATECH/TECHNICS HUMMER Xは、シリコンウェーハなどの基板に薄膜を成膜するために設計されたスパッタ装置です。このシステムは、300°C〜800°Cの温度で薄膜を堆積させる独自の蒸発プロセスを利用しています。このユニットは、2つの異なる材料を同時にチャンバーにロードすることを可能にするデュアルるつぼの設計を含んでいます。Human Machine Interface (HMI)を内蔵した完全自動化されたマシンで、圧力、温度、スパッタリング電力などの堆積パラメータを制御できます。ユーザーは、特定のアプリケーションのカスタムレシピをプログラムすることもできます。スパッタリングマシンは、超高真空および高温動作を備えた真空チャンバーを備えています。これは、クライオポンプを使用せずに10-6 torrの基圧を達成することができます。また、11インチの基板間距離を備えた高い空間分解能を備えているため、フィルムの均一性と厚さを正確に制御できます。デュアルるつぼの設計により、このツールは2つの異なる材料を同時に堆積させることができ、ユーザーはさまざまな組成と厚さの多層スタックを作成することができます。ANATECH HUMMER Xには、インターロックセーフティスイッチやプレッシャースイッチなどの安全機能も搭載しています。このアセットにはULPAフィルタも装備されており、0。3ミクロン以上の粒子の99。97%がフィルタリングされています。さらに、± 1°Cの温度均一性を維持し、基板表面全体に均一な蒸着を確保します。全体として、TECHNICS HUMMER Xは、高品質の薄膜をさまざまな基板に堆積させるために設計されたさまざまな機能を備えた強力なスパッタリング装置です。デュアルるつぼの設計により、複数の材料を同時に堆積させることができ、ユーザーはコーティング要件をより柔軟に満たすことができます。このシステムには、インターロック安全スイッチや圧力スイッチなどのいくつかの安全機能も含まれており、オペレータの安全な環境を確保します。HUMMER Xは、高精度温度制御と高分解能成膜制御により、薄膜用途に最適なユニットです。
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