中古 ANATECH Hummer VIII #9249717 を販売中

ID: 9249717
ウェーハサイズ: 8"
Sputtering coater, 8" (3) Target systems (2" in each triangle) Pyrex chamber, 12" Dual stage vacuum pump (Rebuilt) (3) Sputter heads (3) Sources for noble metals Power consumption: 115 VAC, 60 Hz, 6 amps 220-250 VAC, 50 Hz, 3 amps Output: 0-3000 Volts, 0-30 milliamps.
ANATECH Hummer VIIIは、薄膜を低反発および高温基板に成膜するために設計されたスパッタ装置です。これは、酸化物、窒化物、金属などの幅広い材料を堆積することができる堅牢で柔軟性の高いプラットフォームを備えています。また、フィルムの均一性と再現性に優れ、要求の厳しい用途に最適です。Hummer VIIIは800°Cまで温度に達することができる高温基質の部屋を含んでいます。これにより、ユーザーはさまざまな高温基板を加工することができ、またPECVDコーティングを使用することができます。HuVIIはまた、Si/SiO2やSiC/SiNxを含むスパッタリングターゲットの広い範囲だけでなく、誘電体と金属のオプションを提供しています。ユニットの特に有利な特徴は、ペアまたはマルチターゲット構成のオプションであり、特定の特性を持つ材料を製造するためにコーティングプロセスを最適化することができます。ANATECH Hummer VIIIは、プロセス制御の広い範囲を含み、正確な堆積率と厚さを維持することができます。これは、ガス流量、ガス組成、圧力、RF電力、スパッタ速度、温度などのプロセスパラメータの組み合わせによって達成できます。さらに、HuVIIは基板の動きを自動制御し、コーティングパラメータを最適化します。Hummer VIIIは、堅牢で柔軟性の高いプラットフォームと幅広い成膜機能により、高品質の薄膜を作成するのに理想的な機械です。超伝導体、透明導体、誘電体、磁気光学フィルムなど、さまざまな用途に適しています。さらに、このツールを使用して多層スタックを作成し、特定のターゲットを絞ったフィルム構造を作成できます。これらの機能のすべては、アナテックハンマーVIII薄膜の堆積のための優れた選択肢になります。
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