中古 AMAT / APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twin #9243193 を販売中

ID: 9243193
Vertical inline sputtering system Substrate carrier: Substrate dimensions: 730 x 920 mm Carrier dimensions: Approximate 1840 mm length Approximate 2527 mm height Carrier loading capacity: (4) Substrates Carrier material: Ti / Al Glass breakage rate within vacuum area: Glass thickness: < 0.5 mm: 0.3% ≥ 0.5 mm: 0.1% Vacuum measuring equipment: Pirani vacuum meter: Range: 10³ hPa to 1x10^-3 hPa Ionization gauge: Range: 10^-2 hPa to 1x10^-9 hPa Capacitance vacuum meter sensor head: Range: 10^-2 hPa to 10^-4 hPa Pumps: SHIMADZU TPH1503 Turbo-molecular pump Rough vacuum pump SP630 plus WSU-2001 Sputter cathodes: Type: Rotary cathode & water cooled Material of backing tube: Stainless steel Magnetic field: Static magnet array Target: sprayed onto backing tube Target length: 2150 mm Planar cathode: Type: DC Magnetron Material of backing plate: Titanium with water cooling channels ITO / MO BP Al (2) BP Magnetic field: Move mag Target fixing: Bonding Target length: 2100 mm (2) 300 x 265 x 9 mm³ (Two end pcs) 1500 x 265 x 7 mm³ (Middle part segmented in pcs) Heater system: Heating chamber equipped with resistance heater which emits IR radiation Mode of operation: PID Regulation Heater set point capability: 650°C Shielding: Shielding material: Stainless steel High sticking coefficient to prevent particle generation Machine control system: Programmable logic controller with decentralized IO’s Digital & analog controls: Pumps Valves Power supplies Interlocks for water and compressed air Error messages Operating system: Windows Cooling water: Pressure: 5/7 Bar absolute Maximum back pressure: Open drain Water inlet temperature range: 18-25°C Temperature level within: ± 2°C (for TMP’s only) Hardness of water: 6-8°dH (Equivalent 107-143 ppm CaCO3) Electric conductivity: 100 - 200 μS/cm pH-Value: 8 - 10 Foreign particles size: Maximum 100 μm Foreign particles concentration: Maximum 10/cm³ Dissolved Cl: Maximum 20 mg/l Dissolved CO2: Maximum 15 mg/l Compressed air: Pressure: 6/8 Bar absolute Sputter gases: Argon Oxygen Nitrogen Argon / Oxygen Purity of sputter gas: 99.999 % Venting gas: Nitrogen or dry compressed air Dew point: ≤ -30°C Pressure maximum: 1.5 Bar absolute Ambient requirements: Temperature at machine & machine control room: 20-30°C Relative humidity: ≤ 60 % Machine SiO2 / ITO Track consumption values: Power: 760 kVA / 1000 A Machine metal track consumption values: Power: 1000 kVA / 1500 A Electric power: 400 V ±10 %, 50/60 Hz, 3 Phase, 5 wires (3 AC, N, PE).
AMAT/APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twinは、材料の薄膜を基板に塗布または堆積させるために設計されたスパッタ装置です。これは2チャンバーシステムであり、2つの独立した真空チャンバーを備えており、単一の動作サイクルで異なる材料をスパッタするために使用することができます。ユニットは無人運転のためのセットアップで、ユーザーはパラメータを設定し、必要なフィルムが堆積されるまで機械を無人にすることができます。これは、高真空、直流、平面マグネトロンスパッタリング技術に基づいており、ツインカソードで動作することができます。これにより、基板全体で高い蒸着速度と優れた均一性を実現します。このツールは、基板処理を自動化するためにロードロックにドッキングすることもできます。この資産は、アルミニウム、ステンレス鋼、チタン、銅、タングステン、クロムなどの材料を堆積することができます。また、1つの動作サイクルに複数の層を堆積させて多層薄膜を作成することも可能であり、曲面上に凹凸構造と凸構造を生成することもできます。動作仕様では、真空チャンバ容積が4リットル、基圧が2×10-7トーラー、カソード構成が2つの片面平面マグネトロン、最大マグネトロン当たり2000ワットのパワーを備えています。また、直径200mmまでの基板にも対応可能で、室温から600Cまでの基板加熱範囲があります。AMAT NAR 1800ツインは、優れた性能と均一性を提供する安全で信頼性の高いスパッタリングシステムです。
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