中古 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 620B #9315281 を販売中

ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 620Bは、材料研究用途に使用するために設計された強力で信頼性の高いスパッタリング装置です。基板加熱の高度化、蒸着パラメータの精密制御、堆積膜の均質性に優れたマグネトロン配列を採用しています。このシステムは、金属、合金、複合材料から、さらに蒸着厚と組成を制御する半導体まで、さまざまな材料をスパッタすることができます。ADIXEN 620Bは、スパッタリング電極を素早く別の材料に切り替えることができる高速ロータリーおよびスイングアーム機構を中心に構築されており、マルチコンポーネント薄膜に不可欠な機能です。これはまた、長期沈殿が実行されている間でも、ターゲット上の潜在的な分布が均質であることを保証します。ユニットの強力な制御ユニットは、圧力、温度、蒸着速度、基板バイアス、およびターゲットの電気特性などのプロセスパラメータをリアルタイムで監視するために使用できます。これにより、非常に正確で正確で信頼性の高い研究アプリケーションになります。その後、マシンは汎用性の高いメインフレームとユーザーインターフェイスと結合されます。この組み合わせは、多数の堆積パラメータを操作するための直感的なインターフェイスを提供します。また、堆積プロセスのプログラミングにも使用できます。強力なコントロールユニットはまた、迅速な反応時間により、急速な温度変化と圧力安定性を可能にし、ツールが高度に自動化されていることを保証します。ALCATEL 620Bは、金属、合金、化合物などのさまざまな材料で動作するように設計されているため、ほとんどの材料研究目的に適しています。また、ターゲット加熱機能を内蔵しているため、電子ビームを介して液体または固体からさまざまな材料を信頼性の高い均一な蒸発が可能です。ユーザーフレンドリーなソフトウェアには、さまざまな材料の複数の層の堆積に適した資産を作る設備と追跡機能も含まれています。全体として、620Bは材料研究用途向けに設計された高効率で信頼性の高いスパッタリングモデルです。沈着パラメータの制御に優れ、堆積膜の均質性に優れています。ユーザーフレンドリーなソフトウェアは、幅広いアプリケーションで機器を柔軟かつ信頼性の高いものにするのに役立ちます。