中古 RAITH / PREMTEK eLine #9382216 を販売中
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ID: 9382216
E-Beam lithography system
Upgraded to PERIODIX
PC
Laser stage
Lithography and nano-engineering workstation
Universal sample holder: Up 2" square
Pico ampere meter with IEEE-interface
CCD Camera
Electron beam lithography starter kit
Manual included
Precision optical microscope with illumination
Precision 1x imaging optics
Projection corrected optical arrangement
Mounting and alignment set
Optimized illumination LED with optics
High resolution CCD Camera
Frame grabber
Fixed beam moving stage lithography module
Wafer carrier, 3"
Mask carrier, 4"
Automated height sensor
Manual load lock: Up to 100 x 100 mm
With high vacuum gate valve
Control electronics
Oil free pumping system
Filament
Operating system: Windows 7.
RAITH/PREMTEK eLineは走査型電子顕微鏡（SEM）で、研究、開発、産業用途に広く使用されています。金属、半導体、絶縁材など、さまざまなサンプル材料にシャープなイメージングと高い表面分解能を提供するように設計されています。SEMは、イオンカラム、電子源、ブランキングガン、ステージの4つの主要コンポーネントで構成されています。イオンカラムは、電子ビームを集中して検出するために使用されます。それは熱損失を減らし、一貫したビーム流れを維持するのを助ける非常に安定したNikasilの静電気のコーティングからなされます。この電子源は、電磁コイルと磁石によって導かれる電子のビームを生成します。ブランキングガンは電子ビーム強度のレベルを下げるために使用され、ステージはサンプル操作に使用されます。RAITH eLineは、イメージングと解析の高精度を提供する先進的な機器です。背面散乱電子イメージング（BSE）、高速スキャンSE （FSSE）、低電圧SE （LVSE）、二次電子顕微鏡（SEM）などの高度なイメージングおよび解析機能を備えています。BSEはサンプルの地形特性を特徴付けるために使用され、FSSEは動的プロセスの超高速イメージングをキャプチャするために使用されます。LVSEは、サンプルとの電子ビーム相互作用の高分解能画像を生成するために使用され、SEMは電子ビームを使用して高分解能画像を生成することができます。PREMTEK eLineには、試料操作用の傾斜ステージ、マイクロ領域イメージング、自動試料フィーダ、真空システム、自動パターン認識ユニットなど、さまざまな機能が組み込まれています。パターン認識機は、サンプル表面の欠陥や特徴を自動認識することができます。1nmまでの解像度を実現できます。5xから500,000xまでの広い倍率で、非常に小さな特徴を調べることができます。さらに、その高スループットは、迅速な画像の収集と分析を可能にします。ELineは、信頼性の高い正確なSEMツールを必要とする研究者や専門家にとって理想的な選択肢です。RAITH/PREMTEK eLineは、高度なイメージングおよび解析機能、組み込み機能、高倍率および解像度を備え、幅広いアプリケーションに最適です。
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