中古 RAITH EBPG 5200 #293828893 を販売中

RAITH EBPG 5200は、研究開発環境におけるナノ加工用途向けに設計された高性能な電子ビームリソグラフィ装置です。この高度な走査型電子顕微鏡は、比類のない精度と制御を提供し、10 nm以下の分解能でナノ構造やパターンを作成するのに理想的です。EBPG 5200の中心には、エネルギーと空間分解能の高い集中電子ビームを生成する電子ビームカラムがあります。このシステムには、1keVから100keVまでのエネルギーを持つ電子ビームを生成できる電界放出電子銃が装備されています。この幅広いエネルギーオプションにより、ユーザーはさまざまな材料や構造のイメージングおよびリソグラフィープロセスを最適化できます。RAITH EBPG 5200は、イメージングやリソグラフィ時のサンプルの正確な移動と位置決めを可能にする洗練されたステージユニットを備えています。ステージは様々な基板サイズや形状に対応でき、幅広い用途に適しています。さらに、このマシンには高度なオートメーション機能が搭載されており、ユーザーは複雑なリソグラフィープロセスをプログラムし、高い再現性と精度で実行することができます。EBPG 5200の主な特徴の1つは、ナノメートルスケールのパターニング機能です。このツールは、直接書き込み、近接効果補正、可変形状ビーム書き込みなど、さまざまなリソグラフィーモードを提供しており、ユーザーは10 nm以下の解像度で複雑なパターンや構造を作成できます。このアセットはオーバーレイ・リソグラフィもサポートしており、マルチレベル・デバイス・ファブリケーションのために複数のレイヤーを正確にアライメントできます。RAITH EBPG 5200には、サンプル特性およびリソグラフィープロセスに関するリアルタイムフィードバックを提供する高度なイメージングおよび計測ツールが装備されています。このモデルは、ナノメートルスケールのディテールを備えたイメージング表面フィーチャー用の高解像度走査電子顕微鏡（SEM）を備えています。さらに、この装置は、電子ビーム誘導電流（EBIC）測定を実行して、ナノスケールでのサンプルの電気特性を特徴付けることができます。最適な性能と信頼性のために、EBPG 5200にはさまざまな環境制御機能が装備されています。このシステムは高真空条件で動作し、電子ビーム散乱を最小限に抑え、正確なリソグラフィ結果を保証します。また、振動遮断技術を搭載し、外乱を最小限に抑え、イメージングやリソグラフィ工程での安定性を維持します。要約すると、RAITH EBPG 5200は、ナノ加工用途向けに設計された汎用性と高性能の電子ビームリソグラフィ機です。高度な電子ビームコラム、精密ステージツール、ナノメートルスケールのパターニング機能、高度なイメージングツールにより、研究者や開発者は、これまでにない精度と制御を備えた複雑なナノ構造やデバイスを作成するために必要なツールを提供します。