中古 PHILIPS / FEI Quanta 450 #9200223 を販売中
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販売された
ID: 9200223
ヴィンテージ: 2012
Scanning Electron Microscope (SEM)
Nano characterization:
Metals and alloys
Oxidation / Corrosion
Fractures
Welds
Polished
Sections
Magnetic
Superconducting materials
Ceramics
Composites
Plastics
Film / Coatings
Geological sections
Minerals
Nanoprocesses:
Hydration / Dehydration
Wetting behaviour / Contact angle analysis
Oxidation / Corrosion
Tensile (Heat / Cooling)
Crystallization / Phase transformation
Soft materials:
Polymers
Pharmaceuticals
Filters
Gels
Tissues
Plant material
Particles
Porous materials
Fibers
Nano prototyping:
Lithography
EBID
Essential specifications:
Electron optics:
High performance thermal emission SEM
Fixed objective aperture
Objective lens geometry: 45°C
Maximum horizontal field width: 6.5 mm
Distance (10 mm): 24.3 mm (65 mm)
Accelerating voltage: 200 V - 30 kV
Probe current: Up to 2 µA
Magnification: 6 -1000000 x
Electron beam resolution:
High vacuum:
3.0 nm - 30 kV (SE)
4.0 nm - 30 kV (BSE)
8.0 nm - 3 kV (SE)
Extended vacuum mode (ESEM):
3.0nm - 30 kV (SE)
Detectors:
Everhart thornley SED (secondary electron detector)
Large field low vacuum SED (LFD)
High sensitivity low kV (SS-BSED)
Gaseous SED (GSED) (used in ESEM mode)
4-Quadrant solid-state (BSED)
Scintillator (BSED / CLD)
IR Camera for viewing sample in chamber
Vacuum system: 1 x 250 l/s TMP (Turbomolecular pump)
Beam gas path length: 10 mm / 2 mm
Chamber vacuum:
High: < 6e - 4 Pa
Low: < 10 - 130 Pa
ESEM: < 10 - 2600 Pa
Evacuation time:
High vacuum: ≤ 150 s
ESEM (FEI Standard test procedures): ≤ 270 s
Chamber:
Size: Left to right 284 mm
Analytical WD: 10 mm
(8) Ports
EDS take-off angle: 35°C
Stage:
X-Y: 100 mm
Z: 60 mm
Z clearance: 75 mm
T: - 5° - 70°
R: 360°
Repeatability: 2 µm (x - y)
Sample holders:
Multi-stub
Single stub mount
Various wafer and custom
Universal sample
System control:
32-Bit graphical user interface: Windows XP
Keyboard and optical mouse
LCD Display, 19"
SVGA 1280 x 1024
Joystick
Manual user
Image processor:
4096 x 3536 Pixels (~14 MP)
File type:
TIFF (8 / 16 bit)
BMP / JPEG
System options:
Manual user interface
Support PC (Monitor, 19")
2012 vintage.
PHILIPS/FEI Quanta 450は、高感度イメージングおよび分析用途向けに設計された走査型電子顕微鏡（SEM）です。その高解像度画像は、ナノスケール寸法のサンプルの微細構造を検査するのに理想的です。この顕微鏡には、単色高張力電子銃、可変電圧イメージングおよび二次電子（SE）検出器のフルスイート、強力な検出ソフトウェア、およびデジタル画像処理機能が含まれています。FEI Quanta 450は、半導体の故障解析、材料構造解析、非破壊材料試験などの幅広い用途に適した強力な高性能SEMです。1。1nmまでの解像度が可能で、ナノスケール構造の高精度イメージングが可能です。この顕微鏡には、Zeiss ECU-D1単色電子銃が含まれています。この電界放出電子源は、1nmのスポットサイズ、高い安定性と再現性、および低い熱放射を有する。ソースはX-Yマニュアルモーション機構に搭載されているため、サンプル上に正確に配置することができ、低ドリフトと高精度になります。PHILIPS Quanta 450には、二次電子検出器（SED）や後方散乱電子検出器（BSD）を含むSE検出器のフルスイートが含まれています。検出器はY-Zの手動運動機構に搭載されており、サンプルの周りに正確に配置することができます。これにより、構造を小容量で正確に元素同定することができます。顕微鏡を搭載したソフトウェアにより、操作が容易になります。これには、2次元イメージング、3次元（3D）再構築、サンプル配置、エネルギー分散型X線分光法（EDS）が含まれます。ソフトウェアのイメージング部分は柔軟でユーザーフレンドリーであり、幅広い画像設定と拡張を可能にします。顕微鏡のデジタル画像処理機能は堅牢であり、高度な画像セグメンテーション、定量的画像解析、ヒストグラム解析などのさまざまな機能をユーザーに提供します。このイメージングは、故障解析の高度なアプリケーションに不可欠です。全体として、Quanta 450は、ナノスケール構造の高分解能イメージングと解析用に設計された高度な走査型電子顕微鏡です。1nmのスポットサイズ、SE検出器、ソフトウェア、およびデジタル画像処理システムを備えたモノクロ電子銃は、半導体、材料、デバイスのサンプルの微細構造の検査に最適です。
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