中古 PHILIPS / FEI Quanta 3D FEG #9266789 を販売中

ID: 9266789
Dual beam SEM Ion beam resolution: 7 nm at 30 kV (Beam coincident point) Electron beam resolutions: High vacuum 0.8 nm at 30 kV (STEM) 1.2 nm at 30 kV (SE) 2.5 nm at 30 kV (BSE) 2.9 nm at 1 kV (SE) Low vacuum: 1.5 nm at 30 kV (SE) 2.5 nm at 30 kV (BSE) 2.9 nm at 3 kV (SE) Extended low vacuum mode (ESEM) 1.5 nm at 30 kV (SE) Chamber vacuum: High vacuum: < 6e-4 Pa Low vacuum: 10 to 130 Pa ESEM Vacuum: 10 to 4000 Pa Pump down time (high-vacuum): < 3 Minutes Power supply: Accelerating voltage: 200 V - 30 kV Probe current: up to 200 nA.
PHILIPS/FEI Quanta 3D FEGは、あらゆる分野の材料の超高分解能イメージングを可能にする電界放射走査電子顕微鏡(FE-SEM)です。この汎用性の高い機器は、FEIの高度な電界放射銃(FEG)技術とPHILIPSの堅牢なスキャンエレクトロニクスを組み合わせて、ナノスケールのイメージングと分析のための強力なイメージングプラットフォームを提供します。FEI Quanta 3D FEGは、1ナノメートルまでの解像度で高解像度のイメージングを特徴とする小型機器です。最大50mmの広い視野を持つこのシステムは、単一のスキャンでサンプルの広い領域を詳細にキャプチャすることができます。この楽器は、最も複雑な立体構造の画像を簡単に取得するように設計されています。この装置は、x、 y、 z軸で最大150mm移動できる自動試験片ステージを備えており、視野の広いイメージングを容易にします。このユニットには高度な電子柱制御も装備されており、さまざまな材料に最適なイメージング条件の自動最適化を容易にします。これにより、ルーチンユーザーは簡単に高品質の結果を取得することができます。Quanta 3Dは、多目的な自動試料処理機も備えています。低電圧二次電子、強いインレンズ二次電子、後方散乱電子イメージングなど、さまざまな種類のイメージングのサンプル配置を変更することができます。Quanta 3Dは、高度なElemental Analysis (EDXおよびEBSD)およびIon Beam Analysis (IBMおよびISS)を実行して、組成情報とサブミクロンの詳細を取得することもできます。Quanta 3Dには多くの機能に加えて、高度なデータ分析と操作を可能にするさまざまなソフトウェアパッケージも含まれています。このソフトウェアを使用すると、3D再構築、サーフェスプロファイリング、およびデジタルイメージ処理にアクセスできます。これらの機能により、Quanta 3Dは幅広い材料のイメージングと特性評価に理想的な機器となります。
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