中古 NANOBEAM nB5 #293648795 を販売中
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ID: 293648795
E-Beam lithography system
Beam size: 2.1 nm, 100 keV, 7 nA
Metal lift off line width: <20 nm
Address grid resolution: 1 nm, 1nm main field
Beam voltage: 30 to 100 keV
Writing area: 195 x 195 mm.
NANOBEAM nB5は、研究開発においてより高い精度と精度を提供するように設計された高性能スキャン電子顕微鏡(SEM)です。1ナノメートルにも及ぶサンプルの高分解能イメージングを提供し、最新の電子ビームエンジニアリングを特長としています。nB5の革新的なNANOBEAM設計は、電子光学と微調整アルゴリズムの画期的な進歩によって可能になった高度な電子制御装置によって駆動されます。これまでにない精度のサンプルを高速で撮影することができます。最大解像度0。1ナノメートルのNANOBEAM nB5は、他の従来のSEMでは使用できないレベルの画像精度を提供します。NB5は専用の5軸電動ステージを備えており、サンプルスキャンを自動化し、反復可能な画像を作成することができます。高度なモータ制御アルゴリズムにより、最適なスキャン性能とサンプル観察および制御戦略のシームレスな統合が保証されます。これらの機能により、サンプルのスキャンに要する時間を大幅に短縮し、複雑な画像を作成するプロセスを自動化できます。NANOBEAM nB5には、素早いサンプルの積み降ろしを可能にする二軸ステージと、さまざまな組成物の最適な画像サンプルに調整できる可変電子ビームユニットが装備されています。高解像度イメージングに加えnB5、最先端のエネルギー分散型X線分光装置(EDX)により、ナノスケールでのサンプルの元素組成を解析することができます。このEDXツールは、検出感度を向上させ、リアルタイムでサンプルの組成を測定する際に高い精度を提供します。NANOBEAM nB5は、汎用性の高いソフトウェアのおかげで、リアルタイムの画像処理と分析評価も可能です。このソフトウェアは、分析を簡素化し、サンプル処理に必要な時間を短縮するのに役立ちながら、サンプルの広い範囲を分析するために使用することができます。全体として、nB5 SEMは材料の研究開発においてこれまでにないレベルの精度と精度を提供し、幅広い用途に理想的なツールとなっています。
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