中古 LEICA VB6-HR #293793423 を販売中
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ID: 293793423
ヴィンテージ: 2002
E-Beam lithography system
Load lock with vacuum system
Automatic control
XY Stage
Plinth
Chamber
Beam forming electron optical column with control system
Beam deflection system
Pattern generator
Pattern data handling system
Operator interface
Keyboard with distributed micro processor sub system controller
(2) Column electronic control racks (CER1 and CER2)
Main control CPU
Disks
Electron optical column:
Electromagnetic alignment coil
Blanking plate assembly
Stage and holders:
(2) Axis helium neon laser interferometer positional measurement system
Automatic robot loading mechanism
Co-planar with substrate image surface
X-Ray mask plate
Wafer piece part
Non standard substrate
Monitors and control:
Transmission detector
Knife edge target mounted
Substrate holder
Beam diameter assessment
Focal plane detector
Focal plane range: ±100 µm
Temperature measurement transducers
Stage and ambient temperature
Logging temperature stability system
Vacuum system:
TFE Electron gun emission chamber
(2) 45/20 I/s Ion pumps
510 I/s Turbomolecular pump
Pattern preparation functions: Computer-aided transcription system (CATS)
Drive method: Direct coupled rack and pinion
Prime method: Stepper motor
Workstage/chamber:
Traverse distance:
X=153 mm
Y= 165 mm
Max velocity:
X>10 mm/s
Y>5 mm/s
Step response:
400 µm X step in 250 MS
400 µm Y step in 500 MS
Positional measurement interferometer: Dual frequency laser
Measurement resolution: 0.62 nm
Measurement arrangement: (2) Axis systems
Beam correction range (BEF): ±20 µm
Thermal control: Water circulator / Stabilizer units
Holder mounting jig: Simplify insertion of substrates
Transfer cycle: <2 min
Pump down time: <10 min for standard airlock
Sub state handling:
Maximum patterning area: 152 mm x 152 mm
Calibration targets:
Mounted holder co-planar with substrate
Focus and stigma ion control
Alignment microscope:
Optional microscope with X/Y table for pre-alignment
Electron optics:
Gun type: Thermal Field Emission (TFE)
Zirconated tungsten cathode
Cathode life: >4000 hr
Beam current density 50 kV: >1000 A/cm
Condenser zoom lenses:
C1 Electrostatic
C2 Electromagnetics
Objective lens: C3 Electromagnetic
Beam energy range: 2050 and 100 Kev Calibrated
Stigma ion: (8) Pole electromagnetic
Beam current range: 100 PA to 200 NA
2002 vintage.
LEICA VB6-HRは、顕微鏡の分野で有名なブランドであるLEICA Microsystemsが製造した高解像度走査型電子顕微鏡（SEM）です。この高度なイメージングツールは、ナノスケールのレベルでの幅広い材料の詳細な表面分析と特性評価のために設計されています。VB6-HRモデルには最先端の技術と機能が搭載されており、研究者、科学者、エンジニアは、卓越した明瞭さと精度でサンプルの微細構造を探索、可視化、分析することができます。LEICAの中核であるSEMはVB6-HR研究中の試料と相互作用する高エネルギー電子ビームを生成する高度な電子光学系です。電子ビームは試料表面をスキャンし、試料中の電子と原子の相互作用は、顕著な解像度と被写界深度を持つ画像を形成するために使用される信号を生成します。VB6-HRは、数十倍から数十万倍の倍率のサンプルを撮影することができ、サブミクロンのレベルで表面地形、形態、組成を詳細に検査することができます。LEICA VB6-HRの主な特徴の1つは、高解像度イメージング機能です。高度な電子光学、検出器、信号処理アルゴリズムを組み合わせたこのSEMは、サブナノメートルの空間分解能で超高解像度イメージングを実現します。このレベルの詳細は、ナノ構造、ナノ粒子、薄膜、表面コーティングなどのナノスケールの特徴を分析するために重要です。VB6-HRは細かいディテールやサンプル地形の微妙な変化をとらえることに優れており、研究中の材料の微細構造特性に関する貴重な洞察を提供します。高解像度イメージングに加えて、LEICA VB6-HRは包括的な材料特性評価をサポートするさまざまな分析機能を提供します。SEMには、二次電子（SE）、逆散乱電子（BSE）、試料によって生成されるX線など、さまざまな種類の信号をイメージングおよび分析するためのさまざまな検出器が装備されています。これらの信号は、元素組成情報、結晶構造データ、およびサンプル表面の地形特性を得るために使用できます。VB6-HRには、エネルギー分散型X線分光法（EDS）と電子逆散乱回折（EBSD）システムがあり、それぞれ高度な化学的解析と結晶構造解析を行っています。さらに、LEICA VB6-HRはユーザーフレンドリーな操作と直感的な制御のために設計されています。顕微鏡のソフトウェアインターフェースにより、画像パラメータの調整、画像モードの選択、最小限の労力で画像品質の最適化が容易に行えます。また、自動イメージングルーチン、ステージナビゲーションツール、画像処理機能を提供し、データ取得と分析ワークフローを合理化します。さらに、VB6-HRは外部アクセサリや周辺機器と統合して、現場実験用の環境チャンバー、サンプル操作用のマニピュレータ、自動画像解析用のソフトウェアモジュールなどの拡張機能を提供します。結論として、LEICA VB6-HRは、高分解能の材料特性評価のための比類のないイメージングおよび分析機能を提供する最先端の走査型電子顕微鏡です。このSEMは、先進的な電子光学、検出器、分析ツールを備えており、材料科学、ナノテクノロジー、地質学、生物学など、ナノスケールの詳細な表面分析を必要とする研究分野の幅広い用途に最適です。VB6-HRは、卓越した画質、分析の汎用性、およびユーザーフレンドリーな操作を組み合わせて、マイクロおよびナノメートルスケールの材料のイメージングおよび特性評価に関する最も要求の厳しい研究および産業要件を満たします。
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