中古 HITACHI RS-4000 #9036353 を販売中
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販売された
ID: 9036353
Scanning electron microscope (SEM), 8"-12"
Includes:
Process evaluation: Litho, etch, CMP
Beam tilt: 10°
Laser darkfield microscope, EDX 15 kV
SEM:
Ip = <10pA ... 200pA
Darkfield OM:
Laser scatterlight (B/W)
Field of view (ca.): 620 um (220x)
Illumination level: Manually adjustable
For particles >1 um strong interference patterns appear
CCD Bad pixel calibration possible: No
Brightfield OM:
Field of view (ca.): 620 um (220x)
B/W only
Cassette interface:
(2) 12" Load-ports
8" Load ports: No
Robot handler (single end effector)
Status lamp (R/Y/G/B)
GEM/SECs
Sub-Fab (supporting) equipment:
Equipment rack (power box)
(2) BOC EDWARDS EPX-180LE Dry pumps
(1) Cryo tiger cryo compressor
EDX (Option), 15 kV:
Automatic defect re-detection
Automatic defect classification
Vacc: 500 V - 5 kV (auto.), resp. 15 kV (man.)
SEM Pixels: 512 or 1024
SEM Magnification minimum: 1000x (140 µm FOV)
SEM Magnification maximum: 200000x (0,7 µm FOV)
Detector SEM:
Left topography (BSE)
Right topography (BSE)
SE
VC
Image display SEM: Live and average mode
OM: DF + BF
OM Magnification:
220x (ca. 620µm)
440x (by digital zoom)
Tilt: 10° (beam tilt)
Stage rotation: No
Stage accuracy: +/- 1µm
Image resolution SEM: 3.0 nm (800 eV)
Auto EDX: Yes
Defect sensitivity
MTBF: 1000 Hrs
Downtime per month: 6 Hrs
Particle contamination
Front side: Maximum 7 adders >0.16µm
Back side:
Maximum: 3500 adders > 0.2µm
Maximum: 100 adders > 5.0 µm (incl. clusters)
Throughput:
10 Wafer / h (50 Defects)
900 Defects+ADC/h (1wafer)
Manual loading without defect file: Yes
FIB Vacc: No FIB
Milling accuracy
Milling frame size
Measurement requirements:
AST in current software: No
Lowest SEM magnification: 1000x
Maximum voltage for automatic ADR and EDS 5kV
15kV for manual EDS
Minimum voltage 500V
Image mixing: Ok
Manual loading without defect file: Ok
NORAN System: (6) EDS will be offered
Stage resolution: Ok
Beam tilt: 10°
Image resolution at 800eV: 3.0nm
230 VAC (6kVA), Single phase, 50 Hz
CE Marked
Currently stored in clean room
2005 vintage.
HITACHI RS-4000は、焦点電子ビームを用いて様々な材料を可視化・解析する画像を作成する走査型電子顕微鏡（SEM）です。高度なエネルギーフィルタリング技術を採用し、試料の地形と化学組成の最適なコントラストを実現しています。また、SBEDX （Scanning Beam Energy Dispersive X-ray）を使用して、サンプルの元素組成を測定します。この顕微鏡は、異なる波長で4つの異なる画像を同時に取得できるマルチスペクトルイメージングモードを備えており、サンプルの物理的、化学的、構造的特性を完全に視覚化することができます。HITACHI RS 4000は、500xまでの広範囲の対物レンズ倍率を備えた超高解像度イメージングを提供します。統合されたオートスティグメーション機能により、電子ビームを簡単に調整することができますが、手動で調整する必要はありません。また、リモートコントロール装置が内蔵されており、システムの遠隔監視と操作が可能です。高解像度イメージングに加えて、RS-4000は分析機能の広い範囲を提供します。それは大きい区域の表面の地形、層の厚さおよび3Dサンプルパラメータを測定するのに使用することができます。また、X線蛍光、エネルギー分散型X線分光法（EDS）、電子後方散乱回折（EBSD）を用いて、フィルム、ガラス、金属などの標本被膜を特徴付けることができます。RS 4000は、材料特性評価、冶金研究、マイクロエレクトロニクス、医療研究、法医学研究など、幅広い用途で使用できます。高分解能の二次電子（SE）イメージング用の検出器、準背散乱（QB）イメージング、超高分解能で広視野背散電子（BE）検出器など、高度な機能を備えており、1回のスキャンで地形情報と化学情報の両方を取得できます。HITACHI RS-4000は使いやすさのために設計されており、オープンアーキテクチャにより、自動化されたプロセスへの迅速な統合が可能です。このユニットはユーザーフレンドリーで、実験をセットアップし、スキャンの実行を制御し、データをレビューするための直感的なソフトウェアを備えています。さらに、このマシンはメンテナンスやトレーニングからソフトウェア開発まで、幅広いサポートサービスを提供しています。ユーザーフレンドリーな設計と高度な機能により、HITACHI RS 4000は、信頼性と柔軟性を備えたSEM機能を必要とする研究所や研究センターに最適です。
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