AIXTRONは、特にマイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、パワーエレクトロニクスなどの用途に使用される半導体材料の製造に使用される原子炉の有名なメーカーです。彼らの原子炉は高品質で先進的な技術で知られており、業界で好ましい選択肢となっています。Crius 31x2は、2インチのウェーハ機能を備え、研究開発用として広く使用されています。高いプロセス柔軟性と優れた均一性を提供し、層成長と材料組成を正確に制御できます。もう1つの人気モデルは、ハイスループット性能で知られるAIX 2800 G4 HTリアクターです。量産用に設計されており、4インチのウェーハ容量を提供しています。高度な加熱技術と精密なプロセス制御により、優れたフィルム品質と生産効率を保証します。さらに、AIXTRONは2800 G4 HTリアクターを提供し、ウェハサイズを6インチに拡張します。半導体材料の大規模生産に最適で、比類のない均一性、再現性、生産性を提供します。これらのAIXTRON炉は最先端の技術を活用しており、エピタキシャルの成長、材料の品質、デバイスの性能を正確に制御することができます。優れたフィルム均質性、優れたプロセス再現性、高い生産性など、多くの利点を提供し、半導体メーカーが進化する業界の要求に応えることができます。全体として、Crius 31x2、 AIX 2800 G4 HT、および2800 G4 HTを含むAIXTRONの原子炉は、半導体材料生産における革新、信頼性、効率性に対する同社のコミットメントを実証しています。

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