中古 AIXTRON LYNX-iXP #9098087 を販売中

AIXTRON LYNX-iXPは、半導体およびMEMS業界の最高要件を満たすように設計された最先端の低圧化学蒸着（LPCVD）原子炉です。この革新的な技術は、最も困難なプロセスであっても、薄膜コーティングまたは基板の正確で再現性の高い作成を提供します。LYNX-iXPは、性能や信頼性を損なうことなく、大規模なバッチおよび単一の基板プロセスを処理することができます。AIXTRON LYNX-iXPリアクターは、コストを犠牲にすることなく、均一性、安定性、信頼性の点で比類のない性能を提供します。LYNX-iXPは、最先端の研究から成熟した生産まで、多くのアプリケーションに使用できる柔軟なPVDシステムです。これは、アルゴン窒素ベースのプロセスガスを使用しながら、穏やかで均一な基板温度を提供するセラミックコーティング石英チューブを備えています。AIXTRON LYNX-iXPは、微調整フィルム組成のための調整可能な蒸着ゾーン長も備えています。この原子炉には、実装が容易でサイクルタイムが最適化されたレシピなど、さまざまなレシピオプションを提供する制御システムがあります。これにより、1つのプロセスから別のプロセスにすばやく切り替えることが容易になります。LYNX-iXPには、長いプロセスサイクルで金属汚染を低減する統合ソースチャンバーも付属しています。堅牢な設計とオプションのソースチャンバーに加えて、AIXTRON LYNX-iXPは開発者が独自の開発のためにプロセスや材料をカスタマイズするためのプラットフォームを提供します。この原子炉には、リモートプラズマ、基板洗浄、ポストプロセス冷却などの機能を備えることができます。これにより、開発者はさまざまな材料、プロセスレシピ、技術を試すことができ、マイクロエレクトロニクスおよびナノエレクトロニクス製造のさらなる発展につながる可能性があります。LYNX-iXPは、マイクロ電子デバイスおよびナノ電子デバイス生産用の効率的で信頼性が高く、費用対効果の高いLPCVD炉です。この革新的な原子炉は、プロセス開発、微調整レシピ、高品質で均一な薄膜など、他のシステムにはない機能を提供します。幅広いプロセスオプションとカスタマイズ可能な機能を備えたAIXTRON LYNX-iXPは、要求の厳しいアプリケーションに最適です。