中古 TEL / TOKYO ELECTRON / WAFERMASTERS 5BAO-200 #9227375 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON / WAFERMASTERS 5BAO-200
ID: 9227375
ウェーハサイズ: 8"
Rapid thermal annealing system, 8".
TEL/TOKYO ELECTRON/WAFERMASTERS 5BAO-200は、半導体ウェーハの熱処理プロセスに信頼性の高い高性能を提供するラピッドサーマルプロセッサ(RTP)です。それは精密な温度および均等性制御を得るために複数の地帯の機能の強制対流の暖房そして冷却を使用します。TEL 5BAO-200は、アニーリング、再結晶、拡散などの熱処理用途に精密な温度制御を施し、最大直径8インチの大型および重いウエハを処理するように設計されています。各ウェハの表面温度を正確に制御するための複数の/デュアルゾーン選択により、ホットおよびコールドウェーハ処理機能を提供します。WAFERMASTERS 5BAO-200は高速加熱機能を備えており、応答時間は1400˚Cまでの温度に対してわずか5ミリ秒です。この高速加熱により、拡散、酸化、窒化などのプロセスを従来の方法で必要な時間のほんの一部で完了させることができます。東京エレクトロン5BAO-200は、1200˚Cから室温までの冷却時間がわずか12秒という高速冷却オプションも提供しています。このシステムは、4×4のマルチゾーン選択を備えた高度なコントローラを備えており、ウェーハ表面全体の温度を正確に制御できます。これにより、熱プロセスを最適化するための正確な温度調整と、複数の材料層にわたる正確な温度調整が可能になります。これらの機能により、より高い精度と均一性でウェーハを処理できます。高度な温度制御に加えて、5BAO-200はまた、変動なしで反復可能な沈殿物を提供するターボ型バルブを備えたデジタルガス流量制御を備えています。このガスフロー制御により、プロセスの再現性と再現性が向上します。TEL/TOKYO ELECTRON/WAFERMASTERS 5BAO-200には、クォーツカプセル化された自動ウェーハ伝達機構も搭載しています。これにより、効率的なローディングとアンロードが可能となり、処理されたウェーハの周囲環境への露出を低減します。これにより、ウェーハの酸化や異物汚染を最小限に抑えることができます。TEL 5BAO-200は、業界最高水準を満たすように設計された信頼性が高く、非常に効果的なラピッドサーマルプロセッサです。それは精密な温度調整、速い暖房および冷却時間および高度のデジタルガスの流れ制御を高度の熱処理技術の最新を、提供します。高品質のエンジニアリングと堅牢な構造により、WAFERMASTERS 5BAO-200は拡散、酸化、窒化などの用途に最適です。
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