中古 STEAG / MATTSON / AST Helios #293593150 を販売中

STEAG/MATTSON/AST Heliosは、半導体デバイスの製造、薄膜、ナノテクノロジーなどの用途に使用される急速熱処理装置（RTP）です。この装置は、窒素または乾燥酸素の大気を使用して、高温でサンプルを急速に加熱します。このシステムは、温度、圧力、ガス流量などの重要なパラメータを監視するチャンバー全体のセンサーで高度なプロセス制御を提供します。AST Heliosは、4インチのシングルウェーハサーボトレイを備えたオープンロードプラットフォーム設計を備えており、チャンバー全体で均一な熱伝達を可能にします。STEAG Heliosは10秒という低温サイクル時間を実現し、複数のサンプルを迅速かつ正確に同時に処理できます。シールドされた内側と外側のライナーを使用して、材料の汚染やガス抜きを防ぎます。ヘルミオスはまた、熱均一性と表面接着性を向上させるために、予熱された非反応性石英チャンバーを使用しています。このユニットは、± 1°C （± 1。8°F）の精度で、室温から1050°C （1922°F）までの精密な温度制御を提供します。ユーザーは最大40個のサーマルレシピをプログラミングし、セットポイントとホールドタイムで最大5つのリアルタイムモード操作にアクセスできます。このマシンはまた、ほとんどの半導体業界のソフトウェアプラットフォームをサポートするように設計されたユニバーサルコントローラーインターフェイスを備えており、直感的で使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイスを備えた14インチのディスプレイを備えています。Heliosは、4。5 Torrまでのプロセス監視フィードバックシステムと真空定格を統合して設計されています。また、0。02 Torr/minという非常に低い圧力上昇率を持ち、より正確なレシピ開発を可能にします。MATTSON Heliosは、緊急時にツール全体を停止するカットオフスイッチなどの高度な安全機能も提供しています。STEAG/MATTSON/AST Heliosは、その機能、柔軟性、高速加熱機能により、半導体加工アプリケーションに最適です。これは、複雑なプロセスを処理することができ、温度と圧力を正確に制御することができ、世界中の主要な半導体技術の研究センターによって承認されています。