中古 MODULAR PROCESS TECHNOLOGY / MPTC RTP-600S #9241026 を販売中

MPTC/MPT モジュラープロセステクノロジー/MPTC RTP-600Sは、高効率のサーマルアニーリングプロセス用に設計された急速なサーマルプロセッサです。MPTC RTP-600Sには、超高速アニーリングプロセスを提供できる単一の高速キャピラリーが装備されています。モジュラープロセステクノロジーRTP-600S、 2つのクォーツランプアレイでプロセスチャンバー下部から半導体基板またはウェーハを加熱し、数秒以内に急速な熱アニーリング（RTA）温度を達成します。RTP-600Sは、ウェーハ表面に沿って均一な加熱と冷却を提供する線形加熱機構を利用しています。モジュラープロセステクノロジー/MPTC RTP-600Sは、特許取得済みの「ラジアルディープホットスポット」設計により、熱アニーリングプロファイルを正確に調整することができます。MPTC RTP-600Sは、さまざまな基板およびアプリケーション要件のニーズを満たすために、優れたプロセス柔軟性を提供します。このプロセスは、シリコン、炭化ケイ素、ヒ素ガリウムなどのさまざまなウエハにも対応しています。また、ウェーハサイズや形状も用途に応じてカスタマイズできます。リニアヒーティングブロックの設計は、ウェーハキャリアをコンパクトにし、ウェーハローディングとアンロードを容易かつ信頼性の高いものにします。モジュラープロセステクノロジーRTP-600Sコントローラは、複数のプロセスリクエストを処理し、温度や時間などのプロセスパラメータを優れた制御を提供することができます。RTP-600Sはまた暖かい点の温度を低く保つ統合された冷却ファンと統合されます。この内蔵ファンと空冷ヒーターを使用することで、熱循環時間を短縮し、熱歪みを低減できます。モジュラープロセステクノロジー/MPTC RTP-600Sプロセスチャンバーは真空密封されており、気体や水分浸透を防ぎ、処理中にウェーハから水分を遠ざけるために密閉シールを作成できます。このプロセスには、制御された量のプロセスガスをプロセスチャンバーに追加できるようにするためのオンボードガス配送と排気システムも含まれています。MPTC RTP-600Sは、最高の信頼性と堅牢性を目指して設計されており、精密なアライメントや特別なプロセス設定を必要とせずに500回以上の再現可能なサーマルサイクルを実行できます。さらに、モジュラープロセステクノロジーRTP-600S安全ガイドラインに従い、複数の安全プロトコルで認定されています。