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AXCELIS Summit
ID: 9359567
Rapid Thermal Processing (RTP) system.
AXCELIS SummitはRapid Thermal Processor (RTP)です。半導体業界の電子デバイス処理用に設計された高スループット熱工具です。Summitは現在利用可能な最も信頼性が高く効果的なRapid Thermal Processorです。AXCELIS Summitは、最高レベルの制御を備えたデバイス製造に不可欠な優れた熱性能、均一性、および精度の組み合わせを提供します。サミットには2つの独立したデュアルゾーンチャンバーがあり、それぞれが独立した暖房および制御機能を提供し、最適な温度の均一性と処理精度を提供します。AXCELIS Summitのプロセスチャンバーには革新的な間接発熱体システムがあり、ウェーハ加熱プロファイルを正確に制御することができます。高度な温度検出および制御技術により、優れたプロファイル精度と高いチャンバー温度が得られ、デバイス性能が向上します。サミットのデュアルゾーン加熱システムは、独自の直接/間接加熱技術を使用して、優れた温度均一性と安定した予測可能な温度プロファイルを提供します。シングルゾーンRTPは、独立した独立したプログラマブルコントローラによって制御された1セットの放射加熱素子を提供します。このデュアルゾーンRTPは、それぞれ専用のコントローラを備えた2つの放射加熱素子を提供するため、各ゾーンの温度プロファイルと均一性を個別に調整できます。AXCELIS Summitは、ほぼすべてのウェーハ処理アプリケーションのニーズを満たすために高度にカスタマイズ可能で構成可能です。これは、標準および高度な高温レシピの両方を含む多くの異なるプロセスをサポートしています。温度制御は、アプリケーションの限界によってのみ制約され、汎用性と柔軟性があります。Summitの多くのオプションには、リモートレシピの選択、高度な制御アルゴリズム、自動レシピセンシングハードウェア検証、回転機能、裏面加熱、複数のウェハカセット構成、および各ヒーターゾーンの独立したクローズドループ温度制御が含まれます。AXCELIS Summitのユーザーフレンドリーなインターフェイスは、高精度の温度制御を可能にし、レシピを変更するための複雑な計算の必要性を排除します。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)により、ユーザーは最小限の調整で簡単かつ効率的にRTPを制御できます。Summitは、単一のウェーハ処理のための信頼性が高く、高性能で費用対効果の高いソリューションです。優れた熱性能と均一性を提供し、最高レベルのデバイス歩留まりと性能を保証します。効率的で信頼性の高い正確なシングルウェーハ処理ソリューションが必要な方に最適です。
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