中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage #9284534 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Rapid Thermal Processorは、半導体デバイスメーカーが可能な限り最速で最高品質の半導体製品を生産することを可能にする高度な熱処理装置です。これは、ミリ秒の過渡制御、正確な温度プロファイル、および洗練されたガス供給オプションを備えたサーマルサイクリングを提供します。AMAT Vantage RTP装置は、半導体産業で利用可能な最も洗練された熱処理ツールの1つです。APPLIED MATERIALS Vantage RTPは、複数の発熱体を使用して、各処理ステップで正確な温度制御を提供します。これらの発熱体は、熱を放射する赤外線（IR）ラジエーターと熱を伝達する熱いガス源で構成されています。IRラジエーターとホットガス発生器は、正確な温度制御を可能にするために、2つまたは3つのモジュールの配列に配置されています。IRラジエーターとホットガス源のアクティブ制御により熱を調整し、ウェーハに正確な熱量を印加します。Vantage RTPはまた、ユーザーがリアルタイムでユニットと対話することを可能にするプロセスチャンバー通信（PCC）システムを提供しています。このPCC機械はグラフィカルユーザーインターフェイスを通して現在の温度のプロフィール、部屋のシャッターの動き、温度警報および他の変数の直接フィードバックを提供します。さらに、このツールは、データマイニングと詳細な後処理のための自動リアルタイムロギングを提供します。これにより、ユーザーはプロセスデータを振り返り、必要に応じてプロセス調整を行うことができます。AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage RTPは、熱プロファイルを正確に制御しながら、柔軟な処理を可能にする包括的な機能を備えたマイクロプロセッサを備えています。例えば、AMAT Vantage RTPは、マルチポイント温度プロファイル・モード、高速ランプ・レート・モード、低温ベーク・アウト・モード、低温急速熱アニーリング・モードを備えています。これらのユーザプログラマブル機能により、ユーザーは特定のニーズに合わせてサーマルプロファイルを調整できます。APPLIED MATERIALS Vantage RTPには、正確な温度制御と大気組成モニタリングを提供するオンボードガスコントロールアセット（GCS）も含まれています。GCSはまた、ユーザーが正確な大気制御のために特定のガス混合物とクローズドループのフィードバック制御を混合することができます。これにより、正確で反復可能な処理条件が保証されます。全体として、Vantage RTPは強力で洗練された熱処理モデルです。正確な温度制御とユーザー設定可能な機能を提供し、お客様が特定のニーズに合わせてサーマルプロファイルを調整することができます。さらに、そのGCSは、ユーザーがプロセスチャンバ内の大気を監視し、制御することができます。これにより、正確で反復可能な処理条件が保証されます。