中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Vulcan #9390649 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Vulcanは、さまざまな半導体アプリケーションに迅速かつ正確な結果を提供する急速なサーマルプロセッサ（RTP）です。この装置は、コンパクトなフォームファクタで高いスループットと精度を実現するために設計されており、基板加工ニーズのための効率的で費用対効果の高いソリューションです。300mmの設計により、このRTPは従来の方法よりもはるかに高速でウェーハ基板のパルスアニーリングとスパイクアニーリングを提供することができます。AMAT Vantage Vulcanは急速な熱処理（RTP）を行い、ウェーハやその他の基板の流量と生産を最適化します。このシステムは、強力な加熱と冷却を使用して、1250°C/秒までの速度で基板を急速に加熱および冷却します。バルカンの水中アーク加熱（SAH）は、精密かつ再現性のある処理を可能にします。このSAHは高い均質性を提供します。つまり、熱は均等に分布し、正確な目標温度に一貫した効率的な方法で到達します。さらに、ユニットはコンパクトで、無駄を最小限に抑え、均一なプロセスの均一性を可能にします。応用材料Vantage Vulcanは、優れた汎用性と柔軟性を提供します。これにより、最大6つの異なるプロセスレシピで複数の基板を同時に処理できます。さらに、このマシンは、2ナノメートルの非常に高い解像度で、各層の厚さを正確に制御します。この精度は、不適切なサンプルを再処理する必要が少ないため、非常に高い生産性レベルになります。Vantage Vulcanはまた、優れた熱均一性を提供し、すべての基板タイプにわたる再現性のばらつきを大幅に低減します。これにより、プロセス調整の必要性がなくなり、生産プロセスの歩留まりが向上します。また、H2、 N2/O2、 Ar/O2などの異なるリアクタント源も選択できます。これにより、高度な金属酸化物を含むさまざまな材料やプロセスの種類に適しています。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Vulcanは、迅速かつ正確な熱処理を提供するため、ウェーハおよび基板加工ニーズに最適です。高いスループットと最高精度、優れた熱均一性と均質性を提供する最適化された設計を備えています。さらに、複数のプロセスレシピとリアクタント源を備えた優れた汎用性と柔軟性を提供します。このツールはコンパクトで効率的なため、費用対効果が高くなります。