中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587176 を販売中

ID: 293587176
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" Process: RadOx (2) Chambers Wafer type: SNNF Platform type: Vantage 3.X Position A and B: (V352) RadOx2 Chamber A and B process: Toxic RP OHT WIP Delivery Dual 2-slot active cool down station No remote control system E99 Docked reading capability Load port: SELOP 7 Load port operator interface: Standard (8) lights Configurable colored lights Top air intake system Upper E84 interface enabled OHT Upper E84 PIO sensors and cables E99 Carrier ID: TIRIS With RF Operator access switch 4-Color configurable light towers Interface A option eDiagnostic Out the back connection type: RP Out the back connection H2 (2) Water cooling chambers RP Integration hardware: Chamber A and B Standard RAGB rear light tower Vantage skin: (2) Toxic chambers IPUP Transfer pump Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17" Monitor 2: Flat panel on stand, 17" Monitor 1 and 2 cables: 25 ft with 16 feet effective SEMI F47 Semi S2 compliance RTP Chamber type: Radiance RadOx2, 12" Technology option: Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Rotation type: WRLD Toxic Low flow O2: 5 SLM High flow O2: 50 SLM Oxygen analyzer H2: High flow Low flow Side inject No process N2 for flammable MNFLD Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet No MWBC improvement kit Chamber integration lines: RadOx2 RP Pump cable: 81 Feet Base ring: RadOx2 base ring Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM Line 2 / O2, 50 SLM Line 3 / O2, 5 SLM Line 6 / H2, 15 SLM, Side inject high flow Line 7 / H2, 22 SLM, High flow Line 8 / H2, 2 SLM, Low flow Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor Line 11 / He, 30 SLM Line 12 / N2 (BP), 50 SLM Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM Docking station FST install kit Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2017 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radianceは、先進的な半導体デバイス製造アプリケーション向けに特別に設計されたRapid Thermal Processorです。特許取得済みの静止型クォーツウォールインヒーター設計と、最大スループットを実現する高効率の直接搬送型フラットパネルデザインを備えたシングルウェーハ型のラピッドサーマルプロセッサ(RTP)です。ステーションの壁は、急速な熱処理の間、部屋が涼しく保たれるように、石英や他の非可燃性材料で構成されています。AMAT Vantage Radiance Rapid Thermal Processorは、ウェーハのバッチが均一に処理されるように複数のレベルの熱制御を採用しています。温度は、高精度の熱電対アレイと高レートPID制御に基づいて、フィードバックと多段コントローラを促進するためにホストを利用した高度なサーマルコントローラプログラムによって制御されます。この装置を使用することで、幅広い温度や圧力に対応できるため、必要に応じて処理パラメータを微調整することができます。デバイスの加熱速度は、ユーザーがヒートアップ時間を調整できるように調整可能なランプアップレートによって調整することもできます。アプライドマテリアルズVantage Radiance Rapid Thermal Processorは、ウェーハ表面全体に均質な加熱を提供するマルチゾーン、フルウェーハカバレッジ均一性(MZ-FWCU)システムで設計されています。装置の加熱されたゾーンは、3つの疑似等温処理領域(冷却前および冷却後のゾーンを含む)に分割され、ウェーハを室温から許容範囲内の最高設定ポイント温度に加熱できます。MZ-FWCUは、ホットスポットやコールドスポットを使用せずにウェーハを均一に加熱します。Vantage Radianceのチャンバーは、処理時間中も非常にきれいに保つように設計されています。このユニットは特許取得済みのプラズマ発生器を備えており、安定した一貫した洗浄環境を提供し、粒子間破片を効果的に排除し、表面および材料の損傷を最小限に抑えることができます。さらに、腐食および粒子減少機能、フェイスリフトグリップ機構、ヒーターヒーターの高さを調整できるため、迅速かつ簡単なメンテナンスが可能です。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance Rapid Thermal Processorは、デバイスの歩留まりを最適化し、スループット時間を最小限に抑えるように設計された、高度で高効率なシングルウェーハ処理機です。高度なサーマルコントローラプログラム、均一工具、プラズマジェネレータなど、その機能と機能は、高度な半導体デバイス製造アプリケーションに最適です。
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