中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587174 を販売中

ID: 293587174
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" Process: RadOx (2) Chambers Wafer type: SNNF Platform type: Vantage 3.X Position A and B: (V352) RadOx2 Chamber A and B process: Toxic RP OHT WIP Delivery Dual 2-slot active cool down station No remote control system E99 Docked reading capability Load port: SELOP 7 Load port operator interface: Standard (8) lights Configurable colored lights Top air intake system Upper E84 interface enabled OHT Upper E84 PIO sensors and cables E99 Carrier ID: TIRIS With RF Operator access switch 4-Color configurable light towers Interface A option eDiagnostic Out the back connection type: RP Out the back connection H2 (2) Water cooling chambers RP Integration hardware: Chamber A and B Standard RAGB rear light tower Vantage skin: (2) Toxic chambers IPUP Transfer pump Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17" Monitor 2: Flat panel on stand, 17" Monitor 1 and 2 cables: 25 ft with 16 feet effective SEMI F47 Semi S2 compliance RTP Chamber type: Radiance RadOx2, 12" Technology option: Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Rotation type: WRLD Toxic Low flow O2: 5 SLM High flow O2: 50 SLM Oxygen analyzer H2: High flow Low flow Side inject No process N2 for flammable MNFLD Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet No MWBC improvement kit Chamber integration lines: RadOx2 RP Pump cable: 81 Feet Base ring: RadOx2 base ring Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM Line 2 / O2, 50 SLM Line 3 / O2, 5 SLM Line 6 / H2, 15 SLM, Side inject high flow Line 7 / H2, 22 SLM, High flow Line 8 / H2, 2 SLM, Low flow Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor Line 11 / He, 30 SLM Line 12 / N2 (BP), 50 SLM Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM Docking station FST install kit Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radianceは、高精度の半導体製造プロセスを容易にするために、信頼性の高い再現可能なウェーハ温度プロファイルを作成するために設計された急速なサーマルプロセッサです。コンパクトで精密な熱処理装置で、2ゾーンプロセスチャンバーで最大120˚Cまで対応可能です。ラディエンスは、+/-600˚Cの精度で、最大5˚Cの動的温度範囲を提供します。これにより、非常に正確で反復可能な熱アニーリングプロセスが可能になります。Radianceは、クリーンで静的な環境を維持するために、超清浄プロセスチャンバーと静電チャックテーブルを備えています。また、Radianceは熱伝導率と均一度測定ツールを内蔵しています。これにより、正確で反復可能な結果が保証され、ウェーハの歩留まりと品質が向上します。Radianceには、最先端の高速パワーコントローラ(HSPC)も含まれています。HSPCは多段パルス幅変調(PWM)システムとインテリジェントコントローラで構成されており、複雑な電力管理が可能です。HSPCは最大30 STPV (Step Time Process Variable)を管理し、最適な熱アニーリング条件を実現します。Radianceは、柔軟で高速な熱処理を可能にするように設計されています。それは速い暖房および冷却率、正確で、反復可能な熱プロフィールおよび短いサイクル時間を特色にし、細線リソグラフィおよび複雑なエッチプロフィールの製作を可能にします。さらに、プロセス状況をリアルタイムで監視し、最適な性能を確保するための高解像度ピロメーターを装備することができます。Radianceはすぐに使用できるシステムとして販売され、十分にテストされ、構成可能です。このシステムは、高い精度と再現性を維持しながら、プロセスを自動化するように設計されています。Radianceは、設定可能なスタンドアロンユニットとして、または包括的なツールスイートの一部として使用できます。自動化、精度、再現性、柔軟性を兼ね備えたRadianceは、半導体製造に最適です。
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