中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293586616 を販売中
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ID: 293586616
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12"
Process: RadOx
(2) Chambers
Wafer type: SNNF
Platform type: Vantage 3.X
Position A and B: (V352) RadOx2
Chamber A and B process: Toxic RP
OHT WIP Delivery
Dual 2-slot active cool down station
E99 Docked reading capability
Load port: SELOP 7
Load port operator interface: Standard (8) lights
Configurable colored lights
Top air intake system
Upper E84 interface enabled OHT
Upper E84 PIO sensors and cables
E99 Carrier ID: TIRIS With RF
Operator access switch
4-Color configurable light towers
Interface A option
Out the back connection type: RP
Out the back connection H2
(2) Water cooling chambers
RP Integration hardware: Chamber A and B
Standard RAGB rear light tower
Vantage skin: (2) Toxic chambers
IPUP Transfer pump
Open loop tuner
MFC type: STEC
Core anneal and RTO
Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17"
Monitor 2: Flat panel on stand, 17"
Monitor 1 & 2 cables: 25 ft with 16 feet effective
No RTP Abatement Unit
SEMI F47
Semi S2 compliance
RTP Chamber type: Radiance RadOx 2, 12"
Technology option: Open loop tuner
MFC Type: STEC
Core anneal and RTO
Rotation type: WRLD Toxic
Low flow O2: 5 SLM
High flow O2: 50 SLM
Oxygen analyzer
H2:
High flow
Low flow
Side inject
No process N2 for flammable MNFLD
Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet
No MWBC improvement kit
Chamber integration lines: RadOx2
RP Pump cable: 81 Feet
Base ring: RadOx2 base ring
Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM
Line 2 / O2, 50 SLM
Line 3 / O2, 5 SLM
Line 6 / H2, 15 SLM - side inject high flow
Line 7 / H2, 22 SLM - high flow
Line 8 / H2, 2 SLM - low flow
Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor
Line 11 / He, 30 SLM
Line 12 / N2 (BP), 50 SLM
Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM
Docking station FST install kit
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radianceは、半導体デバイスの製造に使用される高速サーマルプロセッサ(RTP)です。ウェハレベルのデバイスの商業生産に不可欠な急速な加熱および冷却サイクルを生成します。RTPは、大型の石英管、赤外線ランプアレイおよび関連光学系、および半導体層のランプの加熱の均一性を制御するための調整可能なプラットフォームを備えたシングルウェーハ急速熱アニーリングシステムです。有効なプロセス温度範囲は0°C〜900°Cで、プロセス時間は5〜60秒で、ウェーハ表面全体で+/-1°Cの均一性があります。AMAT Vantage Radianceは、高度なコンピューター制御とホットウォール真空チャンバーを使用して、温度精度と環境の完全性を保証します。赤外線ランプは、高い強度と均一な空間および時間照射を提供し、優れたウェハレベルの均一性を可能にします。そのホットウォール真空設計により、清潔で汚染のない環境が確保され、処理中に窒素やヘリウムの大気が不要になり、低コストで高効率になります。RTPは、均一な温度分布、優れたウェハレベルの均一性、および幅広いプロセス温度で、高速かつ反復可能なアニール結果を提供するように設計されています。高度なクリーンチャンバー技術により、プロセスの忠実性、再現性、および高速プロセス最適化のための性能を向上させ、プロセス最適化のための高精度スペクトルマッチングを提供します。APPLIED MATERIALS Vantage Radianceは、幅広い診断および制御システムを備えており、温度、プロセス時間、およびエネルギー消費に関するリアルタイムデータを提供します。自動サンプルローディングやウェーハ交換、プロセスおよびサーマルサイクルスケジューリング、プロセス検証などの機能を備えています。さらに、独自の診断システムにより、プロセスのフィードバックを提供し、リモートから安全にアクセスしてシステムのパフォーマンスを監視し、プロセスパラメータをリモートで調整できます。Vantage Radianceは、高性能の半導体デバイスの信頼性の高い生産のために設計されたコンパクトで頑丈なRTPです。低所有コスト、高精度、簡単なオートメーションにより、半導体デバイスの生産に最適なツールです。
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