中古 ALLWIN21 AWgage 200 #9201797 を販売中
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ID: 9201797
ウェーハサイズ: 4"- 8"
Metal film metrology system, 4"- 8"
Main frame
Measurement head
Non-contact sheet resistance measurement
Measurement range: 1m W/sq to 19,990 W/sq
Consistent wafer-to-wafer process cycle repeatability
Wafer carriage travel programmed:
With internal encoder step motor
Without encoder disk
Test sights:
Single center-point
(5) Points
(9) Points
Highly conductive or metal sheet resistance:
1 to 1,999 mW/sq
1 to 1,999 W/sq
10 to 19,990 W/sq
Highly conductive or metal film thickness minimum:
100Å (Ångström) Maximum:
Proportional to resistivity
Maximum for a resistivity of 2.7 mW: 270 kÅ (27 mm)
Sheet resistance repeatability:
Range s/X (±%)
1 to 100 mW/sq 1
100 to 500 mW/sq 2
500 to 1000 mW/sq 4
1000 to 1,999 mW/sq 6
1,999 to 5,000 W/sq Consult factory
5000 to 10,000 W/sq Consult factory
10,000 to 15,000 W/sq Consult factory
Boards:
RF Tank circuit
Pentium® class computer
Main control
Motor control
Ports:
(2) USB
(2) Extra DB9
Touch screen GUI, 15"
Mouse & keyboard
Room temperature: 23° C
Power:
50/60Hz
Single phase
110/220VAC
2 Amps
CE Marked
Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AWgage 200は、さまざまな半導体、フォトニクス、LED製造プロセスで素早く材料を加熱、冷却、転送するために設計された急速なサーマルプロセッサです。AWgage 200は最高1,800°C/minの速度の極端な温度を達成でき、多くの温度依存の適用に適しています。この装置の独自のダイおよびウェハベースの熱技術は、部品の整合性を維持しながらプログラミング、処理、サイクルタイムを短縮するのに役立ちます。その柔軟性は、さまざまな方向加熱および冷却操作、ならびに幅広いプログラム可能な温度を可能にします。ALLWIN21 AWgage 200は、様々な半導体やフォトニック基板、シリコンウェーハ、酸化アルミニウム、サファイア、石英、ダイヤモンド基板など、さまざまな材料に対応できます。また、高度な熱制御技術により、正確な温度ゾーン管理と正確な温度上昇率により、定義済みの温度プロファイルを作成できます。このシステムには、真空制御された周囲圧力チャンバ、低温冷却機能、および独立したポンプおよび加工モジュールを備えた交換可能なマテリアルハンドリングユニットも備えています。AWgage 200は、温度プロセス全体を簡単に制御および監視できるユーザーフレンドリーな制御機で設計されています。このツールの継続的な監視およびレポート機能は、資産運用、温度制御、サイクルタイムに関する詳細なリアルタイムの更新を提供します。さらに、サーマルプロセッサによって加熱された部品を急速に冷却することで、ターボ充電されたエアフロー機能により、プロセスの一貫性を維持し、エラーのないポストプロセス部品を可能にします。ALLWIN21 AWgage 200は、正確な温度制御、超高速加熱および冷却機能、およびさまざまな材料を迅速に処理するための均一な加熱/冷却カバレッジを提供する、強力で信頼性が高く柔軟なサーマルプロセッサです。優れたサーマルエンジニアリング機能を備えたAWgage 200は、さまざまな高性能サーマルプロセスに最適なソリューションです。
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