中古 ALLWIN21 AW B3000 #9201806 を販売中
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ID: 9201806
ウェーハサイズ: 8"
Plasma asher / Descum equipment, 8"
Production-proven plasma stripper
Consistent wafer-to-wafer uniformity
Main body with wires
Control box
Keyboard, mouse
Transformer, circuit breaker, contactor
Cables
EMO, interlocks and watchdog function
Quartz chamber: Diameter 12” x depth 23”
Main control: PCB and DC
Main body of tools:
RF Match network integrated
Chamber door with quartz plate
Gas and vacuum lines connections
Options:
End-of-process (EOP)
Throttle valve for pressure control
Air-cooled RF generator
Thermocouple: Chamber temperature
Vacuum pump
Lamp tower alarm with buzzer
Main vacuum valve
MKS Baratron
Throttle valve
Touch screen GUI, 15"
High throughput: Up to 75 WPH
Gas Lines: Up to 5 isolated gas lines with MFCs
Asher rate: 0-0.1u/min
Positive PR: >0.2u/min
Negative PR
Uniformity: Up to 25%
Particulate: <0.05 /cm2
Selectivity: >1000:1
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Plasma power: Air-cooled RF 13.56MHz
TC Option:
N2 Plasma: Up to 170°C
Types:
Barrel / Batch
Desktop
Stand alone
Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AW B3000は、最高品質の精度と精度のために設計された急速なサーマルプロセッサです。高度な技術を活用して、プロセスから製品への急速な熱伝達を提供し、プロセス制御のための温度、時間、および大気の優れた制御を提供します。この装置は、高度な高温急速サーマルプロセッサ制御を備えており、処理中に正確な熱制御を提供します。AW B3000は、最大2,700°Cのプロセス温度と、精密制御のための低ノイズ環境をサポートします。それはまた速い移動のための高温癒やす部屋が付いている高い保護設計を特色にします。このプロセッサにはオープンチューブチャンバー設計が組み込まれており、加工中の大気の柔軟性と制御性が向上しています。ALLWIN21 AW B3000にはダイレクトヒーティングシステムが装備されており、加工室全体での加熱も可能です。また、チャンバーの異なるレベルで均一な温度分布を保証します。温度の正確な制御と再現性は、洗練された温度監視および制御ユニットによって促進されます。+/-1°Cの熱制御精度と0。001秒の時間制御精度を可能にします。さらに温度の均一性と反応時間の高速化を確保するために、露出シャッターツールで温度制御機を強化します。このアセットにより、各処理ステップの露出時間と露出数を正確に制御することができます。このモデルには、ウェーハおよび基板の高速ロードとアンロードのためのカスタマイズ可能なウェーハリフターも含まれています。また、高度な自動ウェーハ識別装置があり、正確なウェーハの読み込みと識別を可能にします。さらに、このシステムには、リアルタイムの分析とフィードバックのための自動データロギングとレポートが装備されています。AW B3000は、強力で正確な業界標準の急速サーマルプロセッサです。高度な温度制御とレポート機能、カスタマイズ可能なリフトおよびサスペンションシステムにより、優れた精度、精度、処理速度を実現し、ウェハや基板の積み降ろしが容易になります。
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