中古 ALLWIN21 AW 901e #9201818 を販売中
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ID: 9201818
ウェーハサイズ: 3"-6"
TTW Plasma etcher, 3"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Stationary cassette plate
Plasma power: RF 13.56 MHz
Type: Parallel / Single wafer process
Through the wall (TTW)
Gas lines: 1-3 Lines
Throughput: 30-60 WPH, Process dependent
Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability
Gas lines: (4) Gas lines with MFCs
Etcher rate:
AW-901eR: 0-8000A / minute
AW-903eR: 0-4000A / minute
Process dependent
Uniformity: Up to ±3%, Process dependent
Particulate: <0.05 / cm2
Selectivity:
901eR: 2-20:1
AW-903eR: 2-20:1
Process dependent
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Options:
EOP Module with PCB
GEM/SECS II Function
Lamp tower alarm with buzzer
Throttle valve pressure control
Vacuum pump
Chiller for chuck and chamber
Through the wall
Main frame, standard
Pentium class PC with
Keyboard
Mouse
USB
SW Backup
Cables
Chuck:3"-6"
Wafer aligner / Cooling station
3-Axis integrated solid robot:
H-Zero (Standard)
H1-7 x 10.5 (TTW)
Fixed cassette station:
Chuck assembly
901eR Non-anodized
903eR Anodized with flat
903eR Anodized with flat
903eR Non-anodized with flat
Reactor Assembly:
901eR Non-anodized
903eR Anodized
903eR Non-anodized
903eR High performance
Direct cooling
Non direct cooling
Pins:
Quartz
Ceramic SST
Centering ring:
Aluminum
Ceramic
Main control board:
Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves
RF Matching network with PCB
RF Generator: 13.56 MHz
MKS Elite: 300 HD
MKS Elite: 600 HD
MKS Elite: 1000 HD
ENI ACG 3
ENI ACG 10
AC / DC Box
ATM Sensor
UPC Pressure control
225 SCCM: 901eR
2000 SCCM: 903eR
MKS Baratron with peumatic Iiolation valve
Main vacuum valves
Front EMO interlocks
Touch screen GU, 15"
AW-901eR AW-903eR
Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride
Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He
Other gases CHCLF2 / None None
Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000
RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600
Temperature (C) 30 / 30 23
AC Power:
AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase
RF Generator: 200-240 VAC
PC / Monitor: 115 VAC
Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 901eはRTP （Rapid Thermal Processor）で、リフローはんだ付けアプリケーションで特に有用な機能を備えています。再フローはんだ付けでは、はんだペーストを基板や部品に塗布します。部品は、ボード上に配置され、はんだを溶融し、信頼性の高い電気接続を作成するために、高温で加熱されます。AW 901eは、迅速なサイクル時間と高温による急速熱処理（RTP）を提供するように設計されており、このタイプのアプリケーションに適しています。ALLWIN21 AW 901eは、350°Cの最高加熱温度を有し、市場の他の多くのRTPよりも高いです。この高温により、はんだがすばやく溶け、電気接続が信頼できるようになります。最大チャンバーサイズは24 「x24」で、より大きな用途に適しています。発熱体はセラミック赤外線ヒーターで、エネルギーコストを削減し、高温精度を提供します。このユニットには3つの温度プログラムが装備されており、製造プロセスの柔軟性を確保しています。AW 901eは安全性と効率性を考慮して設計されています。このユニットには、処理中に適切な空気圧を確保する圧力スイッチが含まれており、はんだ付けの障害による火災を防ぐのに役立ちます。冷却システムは、チャンバー内の温度勾配を最小限に抑えるように設計されており、コンポーネントが過熱して損傷しないようにします。単位はまた正確な温度調整および安定性を保障するのを助けるPIDの温度調節器を含んでいます。ALLWIN21 AW 901eは高効率で均一な加熱が可能です。サイクルタイムが速いため、リフローはんだ付け工程での人件費を大幅に削減できます。使いやすさは生産に最適で、低コストで多くの企業にとって魅力的な選択肢となっています。全体的に、AW 901eは迅速な加熱時間と均一な加熱を備えた高性能RTPを提供します。最高温度350°Cのリフローはんだ付け用途に適しており、安全性と効率性を考慮した様々な機能を備えています。また、費用対効果が高く使いやすいため、はんだ付け工程の合理化を検討している企業に最適です。
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