中古 ALLWIN21 AW 901e #9201807 を販売中
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ID: 9201807
ウェーハサイズ: 3"-6"
Plasma etcher, 3"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Stationary cassette plate
Plasma power: RF 13.56 MHz
Type: Parallel / Single wafer process
Stand alone
Gas lines: 1-3 Lines
Throughput: 30-60 WPH, Process dependent
Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability
Gas lines: (4) Gas lines with MFCs
Etcher rate:
AW-901eR: 0-8000A / minute
AW-903eR: 0-4000A / minute
Process dependent
Uniformity: Up to ±3%, Process dependent
Particulate: <0.05 / cm2
Selectivity:
901eR: 2-20:1
AW-903eR: 2-20:1
Process dependent
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Options:
EOP Module with PCB
GEM/SECS II Function
Lamp tower alarm with buzzer
Throttle valve pressure control
Vacuum pump
Chiller for chuck and chamber
Through the wall
Main frame, standard
Pentium class PC with
Keyboard
Mouse
USB
SW Backup
Cables
Chuck:3"-6"
Wafer aligner / Cooling station
3-Axis integrated solid robot:
H-Zero (Standard)
H1-7 x 10.5 (TTW)
Fixed cassette station:
Chuck assembly
901eR Non-anodized
903eR Anodized with flat
903eR Anodized with flat
903eR Non-anodized with flat
Reactor Assembly:
901eR Non-anodized
903eR Anodized
903eR Non-anodized
903eR High performance
Direct cooling
Non direct cooling
Pins:
Quartz
Ceramic SST
Centering ring:
Aluminum
Ceramic
Main control board:
Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves
RF Matching network with PCB
RF Generator: 13.56 MHz
MKS Elite: 300 HD
MKS Elite: 600 HD
MKS Elite: 1000 HD
ENI ACG 3
ENI ACG 10
AC / DC Box
ATM Sensor
UPC Pressure control
225 SCCM: 901eR
2000 SCCM: 903eR
MKS Baratron with peumatic Iiolation valve
Main vacuum valves
Front EMO interlocks
Touch screen GU, 15"
AW-901eR AW-903eR
Material etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride
Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He
Other gases CHCLF2 / None None
Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000
RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600
Temperature (C) 30 / 30 23
AC Power:
AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase
RF Generator: 200-240 VAC
PC / Monitor: 115 VAC
Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 901eは、さまざまな半導体および電子デバイス製造プロセスに使用されるRapid Thermal Processor （RTP）です。高速サンプルローディング/アンロード、独立した加熱/冷却、正確な温度制御、およびオプションの水素削減機能を組み合わせたマルチゾーン装置です。この設計により、システムは従来のRTPシステムよりも高速かつ効率的に動作し、時間とリソースを節約できます。AW 901eは、負荷の物理的特性に応じて個々の加熱および冷却速度を正確に調整できるダイナミック最適化制御ユニット（DOCS）を使用しています。これにより、加工された材料に関係なく、プロセスの均一性と再現性が保証されます。また、機内データ収集機や各種アラーム機能を搭載しており、プロセスのさまざまな側面を詳細に監視および記録することができます。ALLWIN21 AW 901eは、3段階のプロセスを使用して、正確で反復可能な加熱と冷却を保証します。最初の段階は温度ランプで、すぐに目標温度に達します。第2段階は、サンプルが熱平衡に達することを可能にする浸漬サイクルです。これに続いて急速冷却処理が行われ、急速に温度を低下させ、サンプルの損傷を防ぎます。AW 901eは、プロセス全体の迅速かつ簡単なセットアップを可能にする自動レシピとシーケンス制御設定で、ユーザーフレンドリーに設計されています。また、ファンのオーバーライドや過熱検出など、さまざまな安全機能を備えています。これは安全な操作を可能にし、プロセスの正確さを保証します。ALLWIN21 AW 901eはいろいろな酸化物の取り外し、急速な温度のアニーリング、急速な冷却、治癒、高温ベークおよびろう付けの塗布に使用することができます。その柔軟な設計により、プロセスのカスタマイズが可能であり、コンパクトなサイズで様々な場所に設置することができます。それは多くの要求の厳しいアプリケーションのための信頼性の高い、費用対効果の高いソリューションです。
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