中古 ALLWIN21 AW 2001R #9201803 を販売中

ALLWIN21 AW 2001R
ID: 9201803
ウェーハサイズ: 2"-6"
Plasma etcher, 2"-6" Wafer loading: 3-Axis robot Plasma power: Microwave Type: Parallel / Single wafer process Stand alone Gas lines: (4) Lines Applications: BPSG Etcher LTO Etcher TEOS Etcher Thermal oxide etcher LPCVD Nitride etcher PECVD Nitride etcher Trench rounding Descum RIE Damage removal Sodium removal Planarization Backside etcher: Poly, nitride, oxide Nitride pattern removal: PBL, LOCOS With pad oxide: >400Å Low temp photoresist ashing over: Oxides, Poly, Al, W, Ti Main frame with breakers, relays and wires Pentium class PC Keyboard Mouse USS SW Backup and cables Fixed cassette stations: (2) Cassette stations One cassette station / One centering / Alignment station Door assembly Metal shower head Extended alumina plasma tube for better uniformity Orifice, gas cap Chamber body and top plate Main control, distributor PCB and DC H1-7 x 10.5 Integrated (3) Axis solid robot Water cooled MAGNETRON and wave guide Water cooled 1000W MAGNETRON / Wave guide with an AGL Microwave power generator: 2.45GHz (4) Isolated gas lines With pneumatic valves and MFC AC Box Main & slow vacuum valves MKS Baratron Throttle valve Front EMO Interlocks Touch screen GUI, 15" Options: GEM / SECS II Function Light tower Vacuum pump Chuck temperature: 60-110ºC (±2 ºC) Gases: NF3, CF4, HE, O2 Uniformity: 100 mm: ± 3% (5% 3 σ) 150 mm: ± 5% (8% 3 σ) Maximum - minimum / 2 x average Reproducibility (w-t-w): 10% 3 σ Particulate: 0.05p / cm2 > 0.3µm Vacuum chamber pump: 165 cfm Cabinet exhaust: >250 cfm Plumbed gases: CF4 O2 He NF3 Electrical requirements: 208 VAC, 3 Phase, 6 Hz, 30 Amps.
ALLWIN21 AW 2001Rは、独自の特許取得済みの設計を使用して、幅広い用途に迅速な熱処理を実行する急速なサーマルプロセッサです。このプロセッサは、ウェハレベルのパッケージングだけでなく、MEMSや化合物半導体デバイス製造にも最適です。AW 2001Rは、ユーザーが各ゾーンの温度設定を監視および制御できる独自の両面平行線形サーマルゾーンを備えています。この機能により、ウェーハ表面を均一に加熱できます。特許取得済みの制御および監視装置は、各サーマルゾーンの温度と速度を独立して継続的に制御および監視し、ウェーハの不均一な加熱を補償するためにウェーハに最も近いサーマルバスを自動的に制御します。ALLWIN21 AW 2001Rは、高精度の熱制御を確保するために強力な5 kW 5ゾーンのパルスレーザー加熱システムを利用しています。高度なパワーコントロールユニットは、プロセスレシピまたは熱条件の変化に迅速に対応するように設計されています。2000Rはアニールおよび拡散の適用のための3kW金属のハライドランプと利用できます。AW 2001Rは、サーマルゾーン外の環境を正確に制御できるプログラマブルガスフローマシンも提供しています。2つの個別制御可能なガス入力ポートは、酸素や窒素などのガス混合物、またはクールダウン動作中の窒素/アルゴンのパージに使用できます。これにより、同じ機器でさまざまなプロセスを実行する柔軟性が得られます。ALLWIN21 AW 2001Rは堅牢な構造で構築され、適切な動作のための安全ツールが装備されています。この資産は、機器の安全で信頼性の高い動作を確保するのに役立ちます。これらの機能により、AW 2001Rは、半導体業界の幅広い用途において信頼性が高く、操作しやすい熱処理モデルをユーザーに提供します。
まだレビューはありません