中古 ALLWIN21 AW 2001R #9201803 を販売中
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ID: 9201803
ウェーハサイズ: 2"-6"
Plasma etcher, 2"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Plasma power: Microwave
Type: Parallel / Single wafer process
Stand alone
Gas lines: (4) Lines
Applications:
BPSG Etcher
LTO Etcher
TEOS Etcher
Thermal oxide etcher
LPCVD Nitride etcher
PECVD Nitride etcher
Trench rounding
Descum
RIE Damage removal
Sodium removal
Planarization
Backside etcher: Poly, nitride, oxide
Nitride pattern removal:
PBL, LOCOS With pad oxide: >400Å
Low temp photoresist ashing over: Oxides, Poly, Al, W, Ti
Main frame with breakers, relays and wires
Pentium class PC
Keyboard
Mouse
USS
SW Backup and cables
Fixed cassette stations:
(2) Cassette stations
One cassette station / One centering / Alignment station
Door assembly
Metal shower head
Extended alumina plasma tube for better uniformity
Orifice, gas cap
Chamber body and top plate
Main control, distributor PCB and DC
H1-7 x 10.5 Integrated (3) Axis solid robot
Water cooled MAGNETRON and wave guide
Water cooled 1000W MAGNETRON / Wave guide with an AGL
Microwave power generator: 2.45GHz
(4) Isolated gas lines
With pneumatic valves and MFC
AC Box
Main & slow vacuum valves
MKS Baratron
Throttle valve
Front EMO
Interlocks
Touch screen GUI, 15"
Options:
GEM / SECS II Function
Light tower
Vacuum pump
Chuck temperature: 60-110ºC (±2 ºC)
Gases: NF3, CF4, HE, O2
Uniformity:
100 mm: ± 3% (5% 3 σ)
150 mm: ± 5% (8% 3 σ)
Maximum - minimum / 2 x average
Reproducibility (w-t-w): 10% 3 σ
Particulate: 0.05p / cm2 > 0.3µm
Vacuum chamber pump: 165 cfm
Cabinet exhaust: >250 cfm
Plumbed gases:
CF4
O2
He
NF3
Electrical requirements: 208 VAC, 3 Phase, 6 Hz, 30 Amps.
ALLWIN21 AW 2001Rは、独自の特許取得済みの設計を使用して、幅広い用途に迅速な熱処理を実行する急速なサーマルプロセッサです。このプロセッサは、ウェハレベルのパッケージングだけでなく、MEMSや化合物半導体デバイス製造にも最適です。AW 2001Rは、ユーザーが各ゾーンの温度設定を監視および制御できる独自の両面平行線形サーマルゾーンを備えています。この機能により、ウェーハ表面を均一に加熱できます。特許取得済みの制御および監視装置は、各サーマルゾーンの温度と速度を独立して継続的に制御および監視し、ウェーハの不均一な加熱を補償するためにウェーハに最も近いサーマルバスを自動的に制御します。ALLWIN21 AW 2001Rは、高精度の熱制御を確保するために強力な5 kW 5ゾーンのパルスレーザー加熱システムを利用しています。高度なパワーコントロールユニットは、プロセスレシピまたは熱条件の変化に迅速に対応するように設計されています。2000Rはアニールおよび拡散の適用のための3kW金属のハライドランプと利用できます。AW 2001Rは、サーマルゾーン外の環境を正確に制御できるプログラマブルガスフローマシンも提供しています。2つの個別制御可能なガス入力ポートは、酸素や窒素などのガス混合物、またはクールダウン動作中の窒素/アルゴンのパージに使用できます。これにより、同じ機器でさまざまなプロセスを実行する柔軟性が得られます。ALLWIN21 AW 2001Rは堅牢な構造で構築され、適切な動作のための安全ツールが装備されています。この資産は、機器の安全で信頼性の高い動作を確保するのに役立ちます。これらの機能により、AW 2001Rは、半導体業界の幅広い用途において信頼性が高く、操作しやすい熱処理モデルをユーザーに提供します。
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