中古 AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 #9146307 を販売中
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ID: 9146307
ウェーハサイズ: 5"-8"
ヴィンテージ: 1993
Rapid thermal processor annealing system, 5"-8"
Electronics
Mass-flow-controlled gas handling
Cooling
ULPA Filtration
Mechanical assemblies
Applications:
Silicon dielectric growth
Implant annealing
Glass re-flow
Silicide formation and annealing
Nitridation of metals
Contact alloying
Oxygen donor annihilation
Wafer handling: Automatic serial processing
Standard cassettes
Throughput: Process dependent
Ramp-up rate: Programmable
1 – 180°C Per second
Steady-state duration: 1 – 600 Seconds per step
Ramp-down rate: Programmable
1 – 180°C Per second
Ramp down rate is temperature
Radiation dependent
Maximum 150°C per second
Recommended steady-state temperature range: 400 – 1200°C
ERP Temperature accuracy:
+3°C to -7°C
Calibrated against an instrumented thermocouple wafer (ITC)
Temperature repeatability: + 3°C
Temperature uniformity: + 5°C
1993 vintage.
AG ASSOCIATES Heatpulse 4108は、厳格なプロセスアプリケーション向けに設計された高速高速サーマルプロセッサです。高度な自動および正確な温度制御により、Heatpulse 4108は最大のプロセス制御と柔軟性を提供します。AG ASSOCIATES Heatpulse 4108は、信頼性と正確な温度制御を提供する強力な石英コーティング炭化ケイ素源材料を使用しています。それは毎秒1000°Cの急速なランプ速度を持っています。Heatpulse 4108は、高度な温度コントローラを使用して、温度を迅速かつ正確に調整することができ、ユーザーに極めて精度と再現性を提供します。さらに、AG ASSOCIATES Heatpulse 4108は優れた熱均一性を提供します。そのマルチゾーン、石英コーティング炭化ケイ素の発熱体は、ウェーハ全体の均一な温度分布を保証します。また、熱循環を改善し、歩留まりとプロセスの安定性を向上させます。Heatpulse 4108システムの利点の1つはモジュラー、適用範囲が広い設計です。シングルタイムパルスまたはマルチタイムパルスモードで動作できます。さらに、AG ASSOCIATES Heatpulse 4108は設定が簡単なパラメータを提供し、ユーザーは独自のサイクルプロファイルを作成できます。ユーザーは、さまざまなウェーハサイズから選択し、カスタマイズされたプロセスレシピをインストールすることができます。安全のために、Heatpulse 4108は自動ロックアウト、絶縁コア、および統合されたインターロック機能で設計されています。また、インターロック保護機能を備えた障害診断機能も備えています。全体として、AG ASSOCIATES Heatpulse 4108は信頼性が高く、汎用性の高い高速サーマルプロセッサです。その精密温度制御、熱均一性の向上、およびカスタマイズ可能なサイクルプロファイルにより、過酷で複雑なプロセスアプリケーションに最適です。
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