中古 RUDOLPH WV 320 #9355361 を販売中

ID: 9355361
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Macro defect inspection system, 12" 2007 vintage.
RUDOLPH WV 320は、半導体産業のために設計された高度なマスクおよびウェーハ検査装置です。ウェーハやマスクの欠陥を正確に捉え、測定するための最新の画像処理技術を搭載しています。このシステムは、高解像度の光学系とLED照明を備えており、マスクとウェーハのイメージを特別なディテールで作成します。RUDOLPH WV320のメインフレームはマウントが簡単で、幅広いニーズに対応できる柔軟性があります。また、オペレータが簡単にウェーハの動きや欠陥の位置を監視することができるモニターインターフェイスが装備されています。このユニットは、検査ジョブに比類のない精度を提供するように設計されており、欠陥の検出に優れた性能を提供します。WV320は、高度な技術を駆使してウェーハやマスクを正確に測定します。統合された20メガピクセルカメラは、最大1,600万画素の解像度で高解像度の画像を撮影します。これにより、マスクやウェーハの微小な欠陥を検出することができます。統合ソフトウェアはさらに優れた欠陥コントラストを提供し、わずかな欠陥も区別します。WV320には、ウェーハやマスクの特徴を検出して測定できる高度な画像処理アルゴリズムを含む専用ソフトウェアもあります。ソフトウェアは、パターンや欠陥を分析し、正確な測定と結果のために既知のパターンにそれらを一致させることができます。さらに、RUDOLPH WV 320は、オペレータがウェーハパラメータを設定し、同じジョブで複数のウェーハを検査することができる直感的なユーザーインターフェイスを備えています。その自動再調整により、正確なウェーハとマスクの測定が可能になり、あらゆる半導体製造プロセスにとって非常に貴重な資産となります。さらに、このツールは、データレポートのための出力フォーマットの広い範囲を備えており、効率的なデータストレージと検索を保証します。結論として、RUDOLPH WV320は、半導体業界の要求に応えるために設計された革新的なマスクおよびウェーハ検査資産です。高度な画像処理アルゴリズム、20メガピクセルカメラ、強力な光学、直感的なユーザーインターフェイスと出力フォーマットを備えているため、非常に信頼性が高く汎用性の高いモデルです。さらに、ウェーハやマスクの測定精度は、あらゆる半導体製造プロセスにおいて貴重な資産となっています。
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