中古 RUDOLPH Waferview 320 #9311789 を販売中

ID: 9311789
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Macro defect inspection system, 12" 2005 vintage.
RUDOLPH Waferview 320は、半導体業界の最先端、包括的なマスクおよびウェハ検査装置です。デジタルCMOSセンサーと高度なソフトウェアプログラミング技術を組み合わせ、写真処理されたマスクやウェーハのさまざまな欠陥や設計情報の最高品質の画像処理および分析を提供します。Waferview 320は、ピクセル当たり最大2000ミクロン(他のシステムよりも2倍の解像度)の画像を提供し、非常に正確な欠陥検出と解析を保証します。イメージキャプチャと欠陥レポート機能により、ウェーハを完全に検査するプロセスを簡素化し、最高の製品品質を保証します。RUDOLPH Waferview 320のユニークな特徴は、レーザーオートフォーカスとトラッキングです。このシステムは、ウェーハを正確に検査するために不可欠な、ディテール指向のイメージングと欠陥位置を可能にします。また、Waferview 320は高度なエッジ検出およびコントラストアルゴリズムを使用して、より小さく、明白ではない欠陥の検出と分析を可能にします。RUDOLPH Waferview 320は、イメージング機能に加えて、欠陥を検出および分類するための幅広い測定も実行します。これらの測定は高精度で行われ、1ミクロン程度のサイズの測定が可能です。Waferview 320のソフトウェアプログラミングは、ユーザーフレンドリーで直感的です。簡単なセットアップと操作が可能で、ユーザーはパラメーターを簡単に調整し、検査ユニットをカスタマイズして特定の要件を満たすことができます。さらに、ソフトウェアは、検査プロセスで見つかった欠陥に関する詳細な情報を提供する包括的なユーザーレポートを提供しています。全体として、RUDOLPH Waferview 320マスクおよびウェーハ検査機は、欠陥または欠陥のあるフォトプロセスされたマスクおよびウェーハを研究するためのオールインワンソリューションです。高度なイメージング機能と欠陥測定を提供し、最高の解像度と品質のイメージングを提供します。これらの機能により、製品を正確に検査し、最適な製品品質を実現します。
まだレビューはありません