中古 RUDOLPH Waferview 320 #9234643 を販売中

RUDOLPH Waferview 320は、高度なインライン欠陥検査タスク用に設計された高解像度マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、優れた機能サイズのマスクとウェーハの自動、高スループット品質検査を容易にするための独自の機能の組み合わせを提供します。このユニットは、19/18/12um NAデュアル軸照明トレインとペアリングされた明るく高精度の7ミクロンのピクセル解像度CCDカメラによって駆動されます。これにより、比類のないウェーハとマスクの検査精度が大幅に明瞭になります。また、直感的なウェーハハンドリングと6軸ロボットアライメントにより、ロボットとウェーハの位置決めの柔軟性と汎用性を高めます。検査アルゴリズムには、地形マッピング、オートフォーカス、欠陥マッピング、特徴差別化、高速移動/ノーゴーなど、複数のウェハ検査技術が含まれます。これらのアルゴリズムは、包括的なデータベースインテグレーションと組み込みの欠陥追跡ツールによって補完され、ウェーハの形状、特徴、テクスチャの微妙な違いを数分で検出できます。また、Waferview 320は最適化された光路を備えており、画像ディテールの全範囲を利用して制御し、エッジからエッジまでの完全なカバレッジを確保します。これにより、大規模な欠陥からデリケートでほとんど見えない欠陥まで、業界をリードするさまざまな欠陥を検出できます。さらに、このアセットには空白ループとパターン認識用の自動プロセスがあり、いつでもプロセスの品質を評価し、検出された欠陥をプロセス関連座標にマップすることができます。モデルの構造は堅牢でモジュラーであり、機械的振動を最小限に抑え、安定したプラットフォームを確保します。機械的および光学的データは1つの不可分の単位に堅く統合され、ユーザーは複数の別の部品を扱わないことによって時間を節約することを可能にします。全体として、RUDOLPH Waferview 320マスクおよびウェーハ検査装置は、あらゆる産業用途に対応する強力で信頼性の高いツールです。ユーザーが欠陥を効果的に検出して検査できる包括的な機能と、より良いワークフローを容易にする直感的な設計を備えています。世界をリードする解像度、精度、精度と堅牢なモジュール設計を組み合わせることで、検査の合理化と高品質な結果の保証に貢献します。